Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL #9200079 à vendre en France

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL est un réacteur de traitement semi-conducteur avancé spécialement conçu pour fournir des applications de gravure de plasma à haute performance. Cet outil performant offre une excellente uniformité de gravure, sélectivité et cohérence. L'outil a été mis au point pour permettre la fabrication rentable de structures complexes de petites dimensions critiques. AMAT Centura 5200 ACL a été conçu avec un réacteur de gravure à plasma multi-chambres monobloc. La conception de ce réacteur intègre une source brevetée de plasma à faible inductance couplée au champ (FCP) qui produit un plasma plus uniforme dans toute la chambre de procédé. Ceci fournit à l'outil une uniformité et une répétabilité de gravure exceptionnelles. De plus, la machine utilise également une source de résonance cyclotron (ECR) bimodale uniforme pour un processus de gravure plasma plus précis, cohérent et répétable. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 ACL supporte également la gravure en une étape, ce qui élimine le besoin de processus de gravure multiples. Cela permet une production plus rapide, plus fiable et économique. La plaque médiane du réacteur comprend également un système avancé de contrôle de la température pour assurer un contrôle ultra fin de la température. Cela permet des processus de gravure plasma très précis. La source de plasma FCP à faible inductance permet également de configurer l'outil pour exécuter les processus HBr, Cl2 et SF6, ce qui offre d'autres supports à une large gamme de processus sur le même outil. Centura 5200 ACL est construit avec un design compact avec une chambre convenablement cloisonnée avec deux vannes d'isolement, un système de pompage unique, et un panneau de gaz commun. Cela rend l'outil relativement simple à installer et à entretenir, ce qui est idéal pour une production rapide et peu entretenue. Le réacteur intègre également un ensemble de diagnostic de haut niveau avec du matériel et des logiciels avancés qui permettent un contrôle et une surveillance accrus de la gravure de plasma. Cela garantit un processus fiable et répétable au sein de la production. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL est un outil avancé de gravure de performance qui a été conçu pour fournir une excellente uniformité de gravure, sélectivité, cohérence et production économique pour la fabrication de structures complexes avec de petites dimensions critiques. Le réacteur multi-chambres de gravure à plasma présente une multitude de caractéristiques, telles qu'une source FCP à faible inductance, une source bimodale ECR, un système de contrôle de la température et un boîtier de diagnostic pour un contrôle et une surveillance accrus, qui le rendent idéal pour une fabrication à haut débit et rentable d'une gamme de conceptions de circuits.