Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP / EPI #160377 à vendre en France
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Vendu
ID: 160377
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Systems, 12"
Application: CMOS EG Elevated source drain
(4) Chambers: (RH3) Reduced pressure EPI
RP Chambers:
Recipe control AssuSETT: Yes
Lamp type: USHIO BNA6
Susceptor type: Silicon carbide coated graphite
Pin type: Hollow silicon carbide coated graphite
Preheat ring: Slotted silicon carbide, coated graphite
Susceptor support shaft: Centerpost
Upper heat shield: 6 Deg flared-in upper outer
Gas delivery options:
Gas panel feed: Bottom
MFC type: STEC Z500
Pump purge: yes
Regulators and displays: Transducers and regulators
Transducer display type: English (PSI)
H2 leak detector: Yes
Gas pallets:
Slot 1: H2 Main 50 SLM normally open
Slot 2: H2 SLIT 10 SLM normally open
Slot 4 MFC: HCI Wafer clean 200 sccm
Slot 4 Restrictor: HCI Chamber clean 15 SLM restrictor
Slot 5: HCI 20 SLM
Slot 8: DCS 300 sccm
Slot 9: DCS 1 SLM MLD
Mainframe:
Mainframe type: Core ENP block 2
Loadlocks: Batch load lock
Chamber interface: Vented stainless steel insert and door with viton
DVR record license:Yes
Water hose fittings: Yes
Chamber common and integration:
Mass flow verification: MFV for 4 Chamber system
Multi wafer clean: MWC for 4 chamber system
Factory interface options:
WIP delivery type: OHT WIP delivery
Number of load ports: 2 load ports
eDiagnostics ready: Yes
Load port types: Enhanced 25 wafer FOUP V2
Load port operator interface: Standard 8 light
Configurable colored lights: Yes
Air intake system: Top intake
E84 Carrier handoff: Upper E84 interface enabled OHT
E84 PIO Sensors and cables: Upper E84 sensors and cables
E99 Carrier ID: Keyence with BCR
Operator access switch: Yes
Light towers: 4 Color configurable light tower
Platform application: EPI ACP block 2
Remote options:
Monitor 1: 17" Flat panel with keyboard on ergo arm
Monitor 2: Remote 17" flat panel on stand
Monitor 2 Cable: 50 feet with 41 feet effective
Pumps:
Process chamber pumps: Edwards IH1000 pump interface only
Pump isolation valve: Yes
Currently powered off
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP/EPI est un outil utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs qui est conçu pour produire des circuits intégrés de haute qualité et des emballages au niveau des plaquettes. Il s'agit d'un réacteur de dépôt et de gravure avancé qui fournit l'uniformité, la répétabilité et la précision de procédé requises aux noeuds modernes avancés. AMAT Centura 5200 ACP/EPI offre une plate-forme optimale pour les dépôts de matériaux avancés et les procédés de gravure. Il s'agit d'un système de verrouillage de charge monobloc avec une chambre de gravure séparée utilisée pour les processus de gravure sèche. Cela permet de faire le dépôt et la gravure en ligne au lieu de séquentiellement avec un outil distinct pour chaque étape du processus. L'outil est également excellent pour les processus de passivation au niveau des plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 ACP/EPI intègre une barre de giration de substrat modulaire qui supporte l'orientation des plaquettes pour une gravure uniforme. Cette caractéristique de conception améliore la répétabilité et l'uniformité des processus par rapport aux outils classiques. Centura 5200 ACP/EPI dispose également d'un Robot Handler puissant avec une méthode de transfert uni-directionnelle. Cette caractéristique assure un alignement précis et une manipulation sûre des substrats lors de leur transfert entre les modules de processus. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP/EPI offre une conception de chambre de procédé améliorée avec une uniformité, une répétabilité et un débit plasmatiques améliorés. Le plasma est généré à la fois par résonance cyclotron électronique (ECR) et par des sources de plasma à couplage inductif (ICP). Il dispose également d'un générateur de puissance radiofréquence (RF) qui permet à l'utilisateur de régler les niveaux de puissance rapidement et avec précision. L'utilisateur peut également fixer des niveaux de pression et une sonde de température de fenêtre en quartz cristallin permet l'inspection et la surveillance des températures de processus. AMAT Centura 5200 ACP/EPI offre une technologie et des performances qui permettent la production de circuits intégrés de pointe et de paquets complexes au niveau des plaquettes. Son excellente uniformité de dépôt et de gravure répond aux exigences de processus difficiles aux derniers noeuds avancés. La conception avancée de l'outil assure un transport et une manipulation optimaux du substrat, ainsi que la meilleure répétabilité possible et la précision du processus. Avec des caractéristiques telles que son générateur RF, son contrôle de pression, sa sonde de température et sa barre de rotation modulaire, le Centura 5200 ACP/EPI est un outil efficace pour obtenir les plus hautes performances possibles pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs.
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