Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH #9184768 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH
ID: 9184768
CVD System Buffer chamber Cooldown chamber with NBLL HP Robot AC Rack RF Generator rack Heat exchanger Miscellanous parts.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 DLH est un réacteur à double voie à plasma à couplage inductif (PIC) à plusieurs chambres utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Conçu avec une productivité optimisée et un débit de plaquette unique jusqu'à 2x75mm à 200-300mm/minute, cet équipement offre des performances robustes dans un large éventail de conditions de processus. La conception du système utilise une configuration à deux chambres, les deux chambres étant disposées en tandem. La première chambre abrite la source et l'alimentation haute tension en plus de la chambre à plasma et de la source de plasma. La chambre inférieure contient une table de polissage chimique-mécanique (CMP), un effecteur d'extrémité et d'autres composants de mouvement. Une interface informatique centrale gère les recettes d'automatisation et de traitement. L'unité est équipée d'un écran tactile intuitif basé sur l'interface utilisateur pour une configuration et un contrôle faciles et précis. Le réacteur comprend des sources de plasma de pointe construites avec la technologie avancée du PIC pour une vitesse de dépôt et une uniformité élevées. Il peut être configuré pour les systèmes de distribution de liquide et de gaz, avec une machine de distribution de gaz dédiée dans la première chambre. La chambre de procédé est équipée d'un noyau en céramique robuste et d'une fenêtre diélectrique précise. Il est conçu pour résister à de grandes pressions de processus et maintenir une sélectivité élevée. Pour assurer un contrôle précis et une répétabilité, l'outil a une sensibilité à la fréquence RF allant jusqu'à 2MHz, en plus du contrôle de fréquence et de polarisation DC avec une fréquence super vitesse 4MHz. AMAT Centura 5200 DLH est capable de films diélectriques et de films masques durs, ce qui le rend idéal pour une large gamme d'applications. Il offre également la flexibilité du traitement latéral, permettant le traitement au travers du silicium. L'actif est conçu pour les processus par lots et monocouche avec rotation appropriée du bateau de wafer et d'autres opérations automatisées. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 DLH est un réacteur très polyvalent qui fournit un débit élevé et une excellente uniformité pour une large gamme de conditions de processus. Avec sa conception multi-chambres, sa technologie de pointe ICP et son interface utilisateur intuitive, il est idéal pour la fabrication de circuits intégrés délicats.
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