Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH #9200051 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH
ID: 9200051
Taille de la plaquette: 6"-8"
CVD System, 6"-8".
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 DLH (Deep Leveraged High-Aspect Ratio) est un outil de photolithographie de pointe qui peut produire des circuits et des composants de prochaine génération pour divers marchés. Cet outil est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs et de l'électronique pour les procédés de gravure, de dépôt et de photomasque. AMAT Centura 5200 DLH combine plusieurs technologies de pointe telles que la lithographie en ultraviolet profond (DUV), le polissage électro-statique et chimique-mécanique (CMP), le dépôt et la gravure à haut rapport d'aspect, dans un réacteur de pointe. L'outil est conçu pour une taille de 70nm, et peut produire des circuits avancés avec les plus petites fonctionnalités possibles. C'est un outil de production agile qui s'adapte aux changements de masque rapidement, permettant des retournements plus rapides. L'incorporation DLH utilise une technologie d'imagerie de pointe avec un niveau de puissance supérieur à ses prédécesseurs, permettant la production de produits de précision supérieure. Sa technologie de gravure à levier profond unique assure une uniformité de gravure optimale et des rapports d'aspect critiques, même à basse pression de fonctionnement. Ceci permet de réaliser des composants avec des rapports d'aspect élevés et des tolérances très serrées. Le processus de gravure est contrôlé et surveillé avec les algorithmes automatisés Best Recipe, qui optimisent les taux de gravure et la sélectivité. Les technologies électro-statiques et CMP sont utilisées pour améliorer le contrôle des processus, l'uniformité et la précision. La lithographie en ultraviolet profond (DUV) utilisée dans les matériaux appliqués Centura 5200 DLH offre une résolution supérieure à celle de ses prédécesseurs. Il fonctionne à une longueur d'onde extrêmement courte pour permettre la réalisation de structures polymériques plus complexes et plus précises. Le système peut produire des masques haute résolution avec des temps d'exposition aussi bas que 2 secondes. La méthode de dépôt plasma utilisée dans l'outil est très efficace et assure un dépôt matériel uniforme. La plate-forme de contrôle de mouvement à roulement d'air de précision et la technologie d'alignement de pointe permettent un contrôle de processus et une précision de position supérieurs. Centura 5200 DLH est un choix idéal pour les environnements de production à haut volume. Ses technologies de pointe offrent des rendements plus élevés, un meilleur débit et une qualité de produit supérieure. Cet outil est également conçu pour être très économe en énergie avec des composants certifiés Energy Star. Finalement, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH est un outil de photolithographie avancé qui aide à produire des produits de précision avec une précision, une uniformité et un débit supérieurs.
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