Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #171348 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 DPS R1 est un équipement à haut débit de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production de semi-conducteurs. Il offre une large gamme de fonctionnalités, ce qui en fait un choix idéal pour une variété d'applications. Le contrôle accru des processus de ce système garantit des gisements cohérents de haute qualité exempts de matières excédentaires, ce qui permet des rendements plus élevés et une réduction du temps de mise sur le marché. AMAT Centura 5200 DPS R1 offre une conception de réacteur multi-zones et des systèmes de contrôle automatisé avec un haut degré de flexibilité. Cela permet de contrôler avec précision le débit de gaz et le dépôt d'énergie thermique pendant les opérations. En outre, l'unité dispose d'une conception multi-buse avec contrôle de gaz indépendant qui permet de traiter de petites ou grandes surfaces avec des limitations minimales. La machine fournit également un four à haute température qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 1400 ° C Cela permet une excellente uniformité thermique et un traitement très efficace de tout matériau. L'outil permet également la surveillance et le contrôle in situ du processus de dépôt à l'aide de logiciels embarqués sophistiqués. Ceci fournit un niveau beaucoup plus élevé de contrôle et de précision du processus CVD haute performance. MATÉRIEL APPLIQUÉ Centura 5200 DPS R1 dispose également d'un actif de gestion des données avancé pour le suivi, l'archivage et l'analyse des résultats. Le modèle a également une conception de loadlock de 10 chambres permettant de réduire le temps de cycle de l'équipement et le coût de possession. Enfin, ce système est livré avec une unité de contrôle de débit innovante qui offre la flexibilité nécessaire pour ajuster les flux de gaz sans avoir besoin de vannes d'arrêt compliquées. En conclusion, le Centura 5200 DPS R1 offre une combinaison de fonctionnalités et de flexibilité inégalée par d'autres systèmes CVD. Ses technologies de pointe en font une solution idéale pour des processus CVD de haute efficacité et de haute qualité dans toute une gamme d'applications. Sa capacité à contrôler avec précision le débit de gaz, l'énergie thermique et les données de processus fournit des performances et une précision inégalées.