Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #9099752 à vendre en France
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Vendu
ID: 9099752
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Metal etcher, 8"
Wafer type: 8" SNNF
(2) DPS R1 metal chambers
(2) ASP+ chambers
(1) Orienter
(1) Cool down
Load Locks: wide body with auto-rotation
Robot: VHP+
Platform type: Etch Centura Phase II
SMIF: not available
RF rack, GMW25
Chamber A & B: DPS R1 Metal
Single cathode
Turbo pump: Seiko Seiki STP-H1303
Upper chamber body: Y2O3 coating
Electrostatic chuck type: polymide ESC
Upper chamber o-ring: Viton
Dome and EDTCU: R1 DTCU
Endpoint type: monochromator
Bias generator: ACG 6B
Bias match: STD
Capture ring: STD polymide ESC
Source generator: STD 2500W
Slit valve o-ring: Viton
Throttle Gate Valve: TGV VAT65
Chamber C & D: APS+
Process kit: chuck
O-ring: silicon
Process control: manometer
Slit valve o-ring: Viton
Plasma tube o-ring: Kalrez
Microwave
Smart match
Magnetron head
Applicator
VDS assembly
Chamber E: STD cool down
Chamber F: orienter
Gas Panel: control VME 1
Controller: Centura common rack
Generator rack: 84" rack
Line frequency: 50Hz
Loadlock / Cassette:
Loadlock type: WBLL with auto-rotation
Loadlock platform: universal
Cassette type supported: KA200 85MTRHS 47C02
Loadlock cover finish: anti-static painted
Loadlock slit valve o-ring type: Viton
Wafer mapping: enhanced
Integrated cassette sensor: yes
Transfer Chamber:
Manual lid hoist: yes
Robot type: Centura VHP+
Robot blade option: roughened Al blade
Wafer on blade detector: basic
Loadlock vent: bottom
Signal Light Tower: 3-color, front panel
Top light color: red
Second light color: yellow
Third light color: green
Light tower buzzer: disabled
Endpoint:
Mounting: stand alone
Cart: 56" tall, painted
Monochromators: (2)
Total Endpoints: (2)
System Controller:
Standard GEM interface: yes
Controller type: 84" common controller
Electrical interface: bottom feed
Exhaust: top
System Monitors:
Type: CRT
Monitor 1: stand alone
Cables: 25'
AC Rack:
GFI: 30mA
Type: 84"
Controller facility interface: remote UPS interface only
Generator Rack:
Cooling water: water manifold
Manifold facilities: 3/4" compression tube fittings
Gas Delivery Options:
Vapor Delivery System (VDS): Ultra Clean
Component selection: premium
Valve: Fujikin
Transducer: Millipore
Regulator: Veriflo
Filter: Millipore
Transducer displays: (1) display per stick
MFC type: Unit 8160
Gas Panel Pallet: A/B
Gas Line Requirement: 4/6
Gas Line Configuration:
Line 1 Gas CL2 MFC Size 200 SCCM
Line 2 Gas BCL3 MFC Size 100 SCCM
Line 5 Gas N2 MFC Size 20 SCCM
Line 6 Gas EMPTY MFC Size EMPTY
Line 7 Gas CHF3 MFC Size 20 SCCM
Line 8 Gas O2 MFC Size 500 SCCM
Line 9 Gas SF6 MFC Size 200 SCCM
Line 10 Gas AR-S MFC Size 200 SCCM
Pallet Corrosive Gas Lines: (2)
Pallet Inert Gas Lines: (5)
Filters: (7)
Gas Panel Pallet C/D:
Gas Line Requirement: 0/4
Gas Line Configuration:
Line 3 Gas O2 MFC Size 5 SLM
Line 4 Gas N2-S MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas VDS MFC Size 750 sccm
Pallet Inert Gas Lines: (3)
Filters: (3)
Gas panel facilities hook-up: top feed, multi-line drop
Gas panel exhaust: BD chamber side top
Gas panel controller: VME
Safety:
EMO switch: turn to release, ETI compliant
EMO guard ring: included
Smoke detector at controller: yes
Smoke detector at MF no skin: yes
50 Hz
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 est une puissante plate-forme de production multi-modules conçue pour le dépôt de couches épitaxiales hautes performances. Ce réacteur est conçu pour produire des matériaux de haute qualité avec des densités de défauts faibles, permettant la production de dispositifs optoélectroniques complexes et de prochaine génération. AMAT Centura 5200 DPS R1 intègre la technologie multi-modules, les techniques avancées d'analyse de surface et les techniques de dépôt polyvalentes dans une plate-forme unique. L'équipement est composé de l'ordinateur central, de l'embrayage, de la chambre de processus et d'un loadlock pour assurer la fiabilité et l'uniformité du processus. Les modules inclus sont le système de commande, l'alimentation, le collecteur de gaz, la source d'ions, la pompe turbomoléculaire, les régulateurs de pression et la source d'érosion. L'ordinateur central intègre la source, la chambre et les composants critiques pour permettre une répartition uniforme de la source sur la plaquette. L'unité de contrôle dispose de processus axés sur la recette avec une gamme complète de fonctionnalités de surveillance et de contrôle. La machine intègre également des techniques avancées d'analyse de surface pour assurer la précision du processus tout en obtenant des résultats positifs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 DPS R1 est équipé d'un logiciel sophistiqué d'acquisition de données et de contrôle des processus pour permettre un fonctionnement efficace de l'outil. Ce logiciel est lié aux multiples composants de l'actif et peut être utilisé pour surveiller et contrôler des paramètres tels que la température de la plaquette, le débit de gaz réactif, la pression et la distribution de gaz réactif, entre autres. La chambre de ce réacteur est thermiquement et mécaniquement stable, ce qui permet une répétabilité et une homogénéité précises du procédé. Centura 5200 DPS R1 comprend à la fois des capacités de gravure sèche et d'implant ionique, permettant une flexibilité accrue et de plus grandes applications. La polyvalence des procédés est encore renforcée par l'inclusion de diverses techniques de dépôt, telles que le dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) et le dépôt par couche atomique (ALD). Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 est une plate-forme de production avancée idéale pour créer des dispositifs optoélectroniques avec des caractéristiques de haute performance et des densités de défauts faibles. Il offre des capacités de dépôt polyvalentes avec des techniques d'analyse de surface avancées pour atteindre l'uniformité et la répétabilité des processus. Ce modèle robuste permet aux utilisateurs de produire des dispositifs et des matériaux complexes et complexes.
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