Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #79721 à vendre en France

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ
Vendu
ID: 79721
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
SACVD BPSG system, 8" notch SMIF (Jenoptik) Wide body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C, D – SACVD DxZ Aluminum heater Direct drive throttle valve PLIS (Doped) AE RFG 2000-2V Gasses (STEC MFCs) O2 15 SLM NF3 100 sccm C2F6 1 SLM O-zone 10 SLM N2 10 SLM He 3 SLM TEOS TEB TEPO Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed OTF Centerfind Synergy V452 Radisys AMAT 486 2001 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 DxZ est un réacteur PECVD (dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma) construit pour le dépôt de matériaux diélectriques et d'autres matériaux avancés. Il dispose d'une grande zone de processus réglable optimisée dynamiquement pour maximiser l'équilibre de pression et l'uniformité. Avec son haut débit, son faible budget thermique et sa conception robuste, l'AMAT Centura 5200 DxZ offre une performance optimale dans le dépôt d'une large gamme de matériaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 DxZ est doté d'une chambre de traitement généralisée à trois zones. Son volume spacieux permet de traiter jusqu'à neuf plaquettes à la fois. La conception est soutenue par un échappement haute performance qui élimine rapidement les sous-produits de réaction pour maintenir des conditions de processus optimales. Centura 5200 DxZ dispose également d'une option pour le chauffage des plaquettes à basse température pour une plus grande uniformité. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura 5200 DxZ est capable de déposer des matériaux semi-conducteurs à partir de diverses sources. Cela comprend des composants de procédé tels que l'hydrure de silicium, les silanes, les TEOS et les chlorosilanes. Le réacteur utilise également des techniques traditionnelles de PVD, d'ultra-pureté et de faible budget thermique pour une compatibilité maximale des procédés. De plus, les films optiquement épais sont facilités par un contrôle serré de la puissance de dépôt. AMAT Centura 5200 DxZ dispose également de diagnostics avancés. Son réseau de détecteurs et son module dédié TDM (thrust deposition monitor) permettent une surveillance précise des films déposés en temps réel. Le système peut alors être ajusté pour compenser les défauts de processus, assurant une uniformité, une conformité et une qualité optimales. Les dispositifs de sécurité n'ont pas non plus été négligés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 DxZ utilise une variété de mécanismes de protection pour assurer un fonctionnement sécuritaire, y compris une chambre fermée, un panneau de sécurité et des systèmes de décharge de gaz. Le réacteur dispose également d'un interrupteur d'arrêt d'urgence, ainsi que d'un mécanisme automatisé de détection des points d'extrémité conçu pour protéger le personnel et les équipements contre les sous-produits de réaction dangereux. En résumé, le Centura 5200 DxZ d'AMAT est un réacteur PECVD performant et robuste. Avec sa zone de processus réglable, haut débit et faible capacité de budget thermique fournit un contrôle complet pour diverses applications de traitement des plaquettes. Son diagnostic avancé et ses caractéristiques de sécurité garantissent un fonctionnement sûr et fiable de l'appareil afin d'obtenir des résultats optimaux.
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