Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9198724 à vendre en France
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Vendu
ID: 9198724
Taille de la plaquette: 8"
CVD System, 8"
Loadlock Indexer
Process chamber lift
HP Robot
System information:
(3) Chambers:
Chamber A: DXZ SiN
Chamber B: DXZ SiN
Chamber C: DXZ SiN
Chamber E: MS Cool
LLA: Narrow
LLB: Narrow
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HP Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF
W/F Position sensor
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: Tylan 2900
Chamber A, B and C:
Clean method: RF
Frequency: Single HF
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 torr
Electrical:
Line frequency: 50/60 Hz
Line voltage: 200/208 V
Line amperage: 240A
System monitors:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator (AC) rack:
(3) Generators: AE RFG 2000-2V
Umbilicals:
Monitor: 55ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50ft
HX Cable length: 55ft
Gas delivery options:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 Ra Max
Filters: Millipore
Transducers: MKS with out display
Regulators: Veriflo
System cabinet exhaust: Top
Gas pallet configuration:
Chamber A, B & C: SEC4400
System controller:
Slot Top rack BD
2 System reset
3 Lk Det 1&2 orConv/TC
5 Lk Det 5&6 orConv/TC
6 Lk Det 7&8 orConv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
21 Chamber A Dl/O 1
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E DI/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A, B & C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box (Match multifunction adapter with interlock 7-J14 OHM):
Chamber Maker Model
A AE 3155077-003B
B & C AE 3155077-003A
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS AMAT0 Heat exchanger, 0010-70008.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura 5200 DxZ est un réacteur semi-conducteur équipé d'un nouveau niveau de précision et de performance pour la fabrication microélectronique. Il profite de la technologie de fabrication avancée AMAT pour produire des caractéristiques petites, précises et cohérentes. Le réacteur est conçu avec une source d'ions avancée, qui a la capacité d'ajouter et d'éliminer rapidement des ions de la chambre de gravure pour améliorer les performances du procédé. La source d'ions haut de gamme offre un contrôle et une précision supérieurs pour une gravure précise. L'AMAT Centura 5200 DxZ est également équipé d'un design de chambre de nouvelle génération. La chambre a quatre murs tous conçus pour travailler main dans la main pour produire une gravure de haute qualité et précise avec une perte de matière minimisée. Les parois servent de parois très précises pour délimiter les recettes de gravure, en plus de fournir un contrôle supérieur de la température et de la pression pendant le fonctionnement. Les parois favorisent également un fonctionnement plus silencieux tout en garantissant une précision parfaite. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 DxZ utilise un porte-substrat propriétaire pour maintenir le substrat en place de façon sûre afin d'assurer une gravure précise. Le réacteur comprend également un système de mélange automatique de gaz commandé par ordinateur qui assure la bonne quantité de gaz envoyés à la chambre de gravure pour une gravure précise. Les gaz utilisés sont l'azote, l'argon et l'oxygène. Un générateur RF interfacé fournit la puissance requise pour le processus de gravure correct. Centura 5200 DxZ est conçu pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs et de MEMS. Il est capable de traiter de grandes et petites plaquettes avec des tailles de caractéristiques aussi petites que 25 nanomètres. Cette centrale d'un réacteur est parfaite pour concevoir, éclaircir, graver et passiver des caractéristiques avec une précision inégalée. En outre, il est conçu pour travailler avec plusieurs environnements de gravure et recettes de gravure qui comprennent gravure sèche, gravure humide, gravure plasma, gravure ionique réactive, gravure ionique réactive profonde, et gravure physique ionisée. Cela fait d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ le choix idéal pour produire des produits puissants, précis et cohérents.
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