Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456 à vendre en France
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Vendu
ID: 9206456
Taille de la plaquette: 8"
CVD System, 8"
Chamber A:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber B:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber C:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber E: MS Cool
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF: Yes
W/F Position sensor: Yes
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer slide sensor: Yes
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: TYLAN 2900
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator rack:
(3) Racks
Generator 1: AE RFG 2000-2V
Generator 2: AE RFG 2000-2V
Generator 3: AE RFG 2000-2V
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS, AMATO
Chiller: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Umbilicals:
Monitor: 55 ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft
HX Cable length: 55 ft
Gas delivery option:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 ra max
Filters: MILLIPORE
Transducers: MKS W/O Display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
System cabinet exhaust: Top
System controller:
Slot Rack BD
2 System Reset
3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC
4 Lk Det 3&4 or Conv/TC
5 Lk Det 5&6 or Conv/TC
6 Lk Det 7&8 or Conv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
17 Chamber D interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E Dl/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A AE RFG 2000-2V 3155053-003B
B AE RFG 2000-2V 3155053-003B
C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box:
Match multifunctional ADPTR
With interlock 7-J14 OHM
Chamber Maker Model
A AE 155077-003B
B AE 315S077-C03A
C AE 315S077-C03A
Power: 200/208 V, 240 A.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Centura 5200 DxZ est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à plasma multitransformant de haute performance - un dispositif utilisé dans la production de matériaux avancés dans les industries du semi-conducteur, de l'affichage et du photovoltaïque. Cet outil est conçu pour permettre aux clients de relever un large éventail de défis de traitement de matériaux avec un système unique - par exemple, couches d'oxyde de haute productivité, dépôt de matériaux PECVD a-Si pour des applications PERL, ainsi que dépôt de couches ultra minces sur des substrats de grand diamètre. Il offre un contrôle de caractéristiques supérieur en trois dimensions, fournissant un contrôle précis de la topologie des composants critiques. AMAT Centura 5200 DxZ est équipé de certaines des techniques de chambre les plus avancées disponibles dans l'industrie. Il est doté d'une géométrie de substrat en plaquettes capable de traiter des substrats de différentes tailles jusqu'à 8 "et composé d'une chambre de pré-traitement hautement développée suivie d'une chambre principale (de traitement). Afin d'assurer l'uniformité et la cohérence des opérations, les chambres sont contrôlées en température et surveillées de près pour assurer des conditions thermiques stables. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 DxZ est également équipé d'un certain nombre de logiciels intuitifs qui permettent le contrôle automatisé des processus, la surveillance en temps réel des températures et la création de recettes programmables. Cela permet d'optimiser l'efficacité de l'outil et la cohérence des processus pendant la production et contribue à réduire le coût de propriété. Pour augmenter le débit, Centura 5200 DxZ offre plusieurs fonctionnalités avancées, dont une conception à double buse, qui permet le traitement simultané de deux substrats, et un processus de modulation à double phase qui peut atteindre des taux de dépôt plus élevés. La conception de la chambre comprend également une technologie avancée d'évaporation sans fenêtre, qui aide à réduire le nombre de cycles d'entretien et à réduire davantage le coût de production par rapport aux approches traditionnelles. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ utilise un système de distribution de gaz hautement efficace qui aide à réduire les précurseurs et l'utilisation de produits chimiques, ce qui contribue à réduire le coût des matériaux et l'impact environnemental. AMAT Centura 5200 DxZ est un réacteur très avancé et polyvalent, offrant aux utilisateurs une solution de pointe pour produire des matériaux avancés avec une précision rigoureuse. Grâce à son utilisation de logiciels intuitifs, hautement automatisés et une variété de fonctionnalités avancées, il est capable de répondre aux besoins en constante évolution des industries qui dépendent du traitement des matériaux avancés.
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