Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9244054 à vendre en France
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Vendu
ID: 9244054
Taille de la plaquette: 8"
Oxide etcher, 8"
Loadlock type: Narrow body
(2) eMax Chambers
Controller
AC Rack
Generator rack
Buffer robot: VHP+
Turbo pump: ALCATEL 1603
ENI 28B RF Generator
RF Rack
MFC Type: AERA 770FC-770AC.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 eMax est un réacteur semi-conducteur permettant la gravure, le dépôt, le dénudage et le nettoyage des plaquettes. L'équipement est capable de traiter des substrats dans une variété de configurations et avec une gamme de capacités de débit. Le Centura 5200 permet un contrôle précis des paramètres du procédé, maximisant le rendement et la rentabilité de la filière. Le Centura 5200 est équipé d'un certain nombre de composants innovants conçus pour optimiser le processus de production. Il dispose d'une chambre de processus Endura flexible qui peut être configuré pour répondre aux besoins de processus individuels. Cette chambre utilise un procédé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (Slant Wall PECVD) qui augmente le débit en consolidant tous les procédés en un seul système. Cette chambre dispose d'une plate-forme de haute précision qui assure un alignement parfait des plaquettes, permettant une gravure et un dépôt précis. De plus, la technique ZCEI (Zero Compression Edge Isolation) est mise en œuvre dans la chambre, ce qui augmente encore le contrôle des paramètres du processus et améliore le flux global des vers. Le Centura 5200Further assure le contrôle du processus avec des mécanismes de sauvegarde de débit qui surveillent en permanence les conditions du processus. C'est un élément clé de l'architecture AMAT Trusted Integration qui fournit un contrôle certifié des processus et garantit la qualité. L'unité utilise également des technologies avancées de conception sous vide qui permettent des chambres de processus propres et des temps de cycle plus rapides. Le réacteur est livré avec une variété de procédés de dépôt/gravure spécialisés conçus pour répondre aux besoins d'applications uniques. Il est équipé de la technologie de dépôt de nitrure de silicium, offrant une plus grande conformité et des propriétés diélectriques supérieures. La technologie de dépôt Metal Gates permet la production de couches denses de masque dur qui protègent les caractéristiques sous-jacentes pendant les phases de gravure. De plus, la machine utilise le procédé de nettoyage et de gravure par voie humide Smooth Surface pour optimiser la propreté et l'uniformité de la plaquette pendant la production, améliorant considérablement les performances de post-traitement. Le Centura 5200 est soutenu par une plate-forme d'outils intégrée conçue pour faciliter le suivi et la gestion efficaces des outils. Il est équipé d'un gestionnaire d'alarme intelligent qui permet une automatisation efficace de la surveillance des processus et aide à éviter les réticules coûteux de la production. La plateforme d'analyse des performances permet aux utilisateurs d'identifier les problèmes potentiels et de gérer le processus de production en temps réel. Enfin, l'actif est équipé d'une API cloud unifiée (interface de programmation d'application) qui offre une intégration et un contrôle unifiés sur l'interopérabilité des appareils et la connectivité outil-outil. AMAT Centura 5200 eMax est un puissant réacteur de gravure, de dépôt, de décapage et de nettoyage de plaquettes semi-conductrices. Avec un contrôle complet des procédés, des procédés de dépôt/gravure avancés et une plate-forme de modèle intégrée, l'équipement est idéal pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés.
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