Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi #157515 à vendre en France

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi
Vendu
ID: 157515
Taille de la plaquette: 8"
Reactor, 8" 3 HTF Epi chambers ATM or RP Standard (Legacy) gas panel.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 Epi est conçu pour produire des dispositifs semi-conducteurs avec une qualité exceptionnelle et des performances robustes. Ce réacteur avancé est un outil de pointe utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs performants. Le réacteur dispose d'un équipement de contrôle thermique avancé avec stabilisation de la température jusqu'à 0,01 ° C, permettant la fabrication efficace de dispositifs semi-conducteurs avec des caractéristiques de microdispositions uniformes. En outre, le réacteur dispose d'un système informatique de contrôle de la température du substrat qui permet un contrôle précis de la température, critique pour minimiser les contraintes induites par le processus et minimiser les défauts. Le réacteur offre également un processus de fabrication de dispositifs entièrement automatisé et intégré avec une surveillance des données en temps réel et une analyse in situ en temps réel. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser facilement les paramètres de processus pour différents matériaux et conditions de processus. Le réacteur AMAT Centura 5200 Epi fournit aux utilisateurs un chauffage, un refroidissement et un contrôle de l'atmosphère automatisés pour améliorer les performances des substrats semi-conducteurs. L'unité est basée sur une chambre de réaction pilotée par ordinateur contenant jusqu'à trois plaquettes de silicium. Ceci permet une fabrication rapide du dispositif et une minimisation du temps de traitement, ainsi qu'une homogénéité améliorée du substrat. Le réacteur est également équipé d'une machine de distribution de gaz à flux laminaire pour maximiser la distribution uniforme de gaz sur l'ensemble de la cuve qui est capable d'alimenter jusqu'à 0,1 ou 1,0 mbar de mélanges argon-azote ou argon-hydrogène. Cet outil permet un contrôle précis de la chambre de plaquette, assurant une passivation et une formation de circuit cohérentes et reproductibles. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les systèmes avancés de régulation de la température des plaquettes et de l'atmosphère du réacteur Centura 5200 Epi permettent aux utilisateurs d'adapter précisément les paramètres de traitement à leurs besoins spécifiques de fabrication d'appareils. L'actif comprend également des ingrédients gazeux d'azote humide ou sec et une variété de ports électriques pré-câblés, facilitant l'accès rapide et facile aux paramètres testés lors de la fabrication de l'appareil. La conception orientée vers l'application du réacteur Centura 5200 Epi garantit que le processus de fabrication du dispositif peut être personnalisé en fonction des besoins individuels de l'utilisateur. Le modèle offre une gamme de fonctions de contrôle et de surveillance conviviales, permettant aux utilisateurs d'optimiser leur processus pour un rendement et des performances maximums. En outre, l'outil est conçu pour garantir des résultats de production fiables et reproductibles, et est disponible dans le commerce.
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