Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi #164775 à vendre en France
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Vendu
ID: 164775
Reactor
ATM 2 Chamber configuration
AC Rack:
3 Phase, 208 V, 400 A
CB1 Trip unit: 500 A
GFCI option: Yes
Water leak detect option: Yes
AccuSETT controller: Yes (3 channel)
5 Phase controller: Yes
Loadlock:
Type: Narrow body
Wafer mapping: Yes
Wafer slide detect option: Yes
Baratron: MKS
Transfer chamber:
Robot type: HP
Center finder: OTF
Slit valve plate: Insert O-ring type
Col down chamber: Yes (#F position only)
Robot blade: Quartz
Process chamber (2 Chambers):
Chamber typeL: EPI ATM
Susceptor: 0200-01932
Pre heat ring: 0200-35081
Susceptor support shaft: 0200-00412
Wafer lift shaft: 0200-00412
Upper dome: 0200-35084
Lower dome: 0200-35042
Temp pyrometer: (3ea) with AUX
Baratron: 1000 Torr
AMV: (2ea) Inner/outer
Blower type: VSB
Blower motor: Baldor
Gas panel:
MFC Unit 1660
ETC:
Umbilical cable: 55 Ft
Transformer:
TR: 480/208V, 130 kVA
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi est un équipement avancé de dépôt par plasma. Il s'agit d'un réacteur de type batch, couramment utilisé pour le dépôt de matériaux avancés tels que le silicium, le germanium et les hétérostructures silicium-germanium pour la fabrication de circuits intégrés. L'AMAT Centura 5200 Epi dispose d'une configuration de substrat verticale et horizontale leader dans l'industrie, permettant le plus haut niveau d'évolutivité et de flexibilité dans la production. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 Epi est alimenté par deux sources de plasma hybrides à couplage inductif qui fournissent un dépôt basse pression très uniforme. Il est équipé de l'Endura Ion Energy Shaping III (IES III), une technologie exclusive qui permet un contrôle précis et une uniformité de dépôt couche par couche. Ces couches sont constituées de couches diélectriques et de métallisation performantes. L'injecteur centrifuge de gaz (CGI) et le système de refroidissement en fin de course sont conçus pour permettre un refroidissement et un recyclage rapides afin de maximiser les temps de cycle. Le CGI permet une introduction rapide, précise et répétable des principaux gaz de procédé dans le réacteur. Ceci augmente l'efficacité de la chambre de dépôt en maintenant l'équilibre thermique. L'appareil dispose également d'un profil de refroidissement à distance en fin de course, permettant à la chambre d'atteindre rapidement une température sûre avant de passer à une atmosphère inerte. Cela garantit des durées de cycle maximales et un contrôle des particules grâce à un refroidissement rapide de la chambre de procédé. Centura 5200 Epi dispose également d'une suite logicielle de recettes de processus et de technologies de contrôle exigeant. L'unité peut être configurée pour des dépôts à haute température et à haut débit pour des applications à plus haut débit. De plus, la machine intégrée de mesure de la température de la plaquette sans contact fournit une mesure de température in situ rapide et précise pour le contrôle du processus. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi est l'outil parfait pour des processus de production de haute précision et très fiables. Sa combinaison unique de caractéristiques lui permet de fournir le plus haut niveau d'uniformité de dépôt de matériaux et d'évolutivité exigé par l'industrie des semi-conducteurs.
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