Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+ #9169931 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP + est un réacteur multi-chambre d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) conçu pour développer des couches épitaxiales sur divers substrats, fabriqué par AMAT. Il fonctionne à des températures de -220 ° C à 700 ° C et est capable de développer des couches épitaxiales de silicium et de matériaux III-V. L'équipement est unique en son genre, permettant de traiter plusieurs plaquettes simultanément avec des taux de dépôt de MBE allant jusqu'à 6.8Å/s. Il dispose d'un film photorésist multi-cristallin avancé (MCP) pour la croissance sélective précise (SAG) des couches épitaxiales. AMAT Centura 5200 MxP + utilise un système de vision haute puissance avec une unité de focalisation automatisée et une machine de filetage des plaquettes pour une manipulation efficace des plaquettes. L'outil peut également être utilisé avec une variété de mécanismes de transfert de plaquettes pour le chargement et le déchargement de plaquettes. En outre, l'atout est équipé de systèmes de contrôle de mouvement en boucle fermée de haute précision et d'un modèle de verrouillage avancé pour assurer un positionnement précis et précis des plaquettes. Il dispose d'un moteur tournant puissant qui permet une rotation précise de la plaquette et un positionnement précis de la plaquette dans les espaces de chargement et de déchargement. Il dispose également d'un équipement complet de capteurs et de rétroaction optique pour un contrôle précis de la température et de la pression. Le système de vide robuste fournit un environnement de croissance stable et cohérent et est capable de garder l'ensemble propre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 MxP + comprend une machine de suivi d'interception avancée basée sur PC pour la surveillance en temps réel et l'optimisation détaillée des processus. Il fournit également une interface utilisateur graphique facile à utiliser pour le fonctionnement facile et le contrôle des paramètres de processus. La chambre de réaction est équipée d'un réchauffeur à plaquettes de précision pour un contrôle de température très réactif. Il dispose de multiples systèmes d'obturation pour les différentes sources, permettant un contrôle précis de l'alimentation en matière de dépôt. Centura 5200 MxP + offre des performances inégalées et est idéal pour les applications avancées telles que la recherche en superlattice et les circuits intégrés 3D, grâce à l'épitaxie sélective. C'est un outil fiable utilisé pour produire des couches épitaxiales à haut rendement avec une excellente homogénéité des couches et des surfaces lisses. C'est un atout polyvalent qui peut être facilement personnalisé pour répondre aux exigences de diverses applications.