Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+ #9351566 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 MxP + est un réacteur épitaxié multi-chambres conçu pour permettre le dépôt au niveau de la production de couches minces et épitaxiales sur des substrats de silicium à des températures allant de 200 ° C à 420 ° C Il a été conçu avec la technologie IPC (Integrated Process Control) afin de fournir aux clients des résultats cohérents et reproductibles. AMAT Centura 5200 MxP + est équipé d'un certain nombre de caractéristiques qui en font un choix supérieur pour les processus de dépôt au niveau de la production. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 MxP + est un réacteur épitaxié flexible et polyvalent conçu pour la production en série. C'est un équipement à haut débit qui est conçu avec la capacité de traiter diverses tailles, types et épaisseurs de substrat. Le système est équipé d'un design multi-chambres avancé qui permet une uniformité de processus supérieure pour toutes les applications. Centura 5200 MxP + est construit avec une source de plasma indépendante pour chaque chambre. Les sources de plasma fournissent une source d'énergie indépendante pour chaque chambre de procédé, augmentant la stabilité et l'uniformité du procédé de dépôt. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura 5200 MxP + est équipé d'un certain nombre de caractéristiques pour assurer des résultats cohérents et reproductibles. L'unité est conçue avec la technologie de contrôle uniforme de l'épaisseur du film (UFTC) qui permet le contrôle précis des paramètres de dépôt. L'UFTC assure un contrôle d'épaisseur dans toute la chambre, assurant une épaisseur de film uniforme en tous points du substrat. La machine comprend également un outil de contrôle des processus en boucle fermée, des systèmes de filtration de précision et une surveillance avancée des processus en temps réel. AMAT Centura 5200 MxP + est capable de produire une large gamme de matériaux et composants sophistiqués. Il convient à des applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les MEM, la microfluidique et la métrologie. L'actif soutient une gamme de processus de dépôt, y compris le dépôt de couche atomique, le dépôt chimique en phase vapeur, la pulvérisation et l'électrodéposition. En conclusion, APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP + est un réacteur épitaxié avancé conçu pour les dépôts au niveau de la production. Le modèle est conçu avec des fonctionnalités avancées telles que le contrôle intégré des procédés (IPC), les systèmes de filtration de précision et le contrôle uniforme de l'épaisseur du film (UFTC). Centura 5200 MxP + fournit aux clients des résultats fiables et cohérents, et convient à un large éventail d'applications.