Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9133092 à vendre en France

Photo Utilisé AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I À vendre
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Réacteurs
Fabricant
AMAT / APPLIED MATERIALS
Modèle
Centura 5200 Phase I
ID: 9133092
Oxide etcher, 8" Wafer shape: JMF Chamber Type/ Location Selected Option System Configuration BASE Position A Oxide Main Etch Position B Oxide Main Etch Position C Oxide Main Etch Position F ORIENTER Position A Configuration Oxide Main Etch Position B Configuration Oxide Main Etch Position C Configuration Oxide Main Etch Position D Configuration System Safety Equipment Selected Option EMO Switch Type TURN TO RELEASE EMO ETI COMPLIANT EMO Guard Ring INCLUDED Smoke Detector At MF No Skin YES Smoke Detector At Gen Rack YES Smoke Detector At AC Rack YES Water and Smoke Detector ALARM System Labels ENGLISH CHA - CHA - OXIDE Chamber Options Selected Option Process Kit USED Turbo Pump Seikoseiki 301 Emission Endpoint Type Monocro Oxide ESC USED Flat BIAS RF GEN OEM-28B MxP Oxide Throttle Butter fly MxP Oxide Gate Valve VAT CHB - CHB - OXIDE Chamber Options Selected Option Process Kit USED Turbo Pump Seikoseiki 301 Emission Endpoint Type Monocro Oxide ESC USED Flat BIAS RF GEN OEM-28B MxP Oxide Throttle Butter fly MxP Oxide Gate Valve VAT CHC - CHC - OXIDE Chamber Options Selected Option Process Kit USED Turbo Pump Seikoseiki 301 Emission Endpoint Type Monocro Oxide ESC USED Flat BIAS RF GEN OEM-28B MxP Oxide Throttle Butter fly MxP Oxide Gate Valve VAT Gas Delivery Options Pallet Options Selected Option Valve Fujikin Regulator Fujikin Gas Panel Pallet A Gas Panel Pallet A Gas Line Requirement Selected Option Pallet Pallet Gas Line Configuration Selected Option Pallet Corrosive Gas Line Qty 3 Pallet Inert Gas Line Qty 5 Filter Qty 8 Gas Panel Pallet B Gas Panel Pallet B Gas Line Requirement Selected Option Pallet Pallet Gas Line Configuration Selected Option Pallet Corrosive Gas Line Qty 3 Pallet Inert Gas Line Qty 5 Filter Qty 8 Gas Panel Pallet C Gas Panel Pallet C Gas Line Requirement Selected Option Pallet Pallet Gas Line Configuration Selected Option Pallet Corrosive Gas Line Qty 3 Pallet Inert Gas Line Qty 5 Filter Qty 8 Gas Panel Features Gas Panel Features Gas Panel Features Selected Option Gas Panel Controller VME I Mainframe General Mainframe Options Selected Option Facilities Type REGULATED Facilities Orientation MAINFRAME FACILITIES BACK CONNECTION Loadlock/Cassette Options Selected Option Loadlock Type NBLL W/ AUTO-ROTATION Loadlock Cover Finish ANTI-STATIC PAINTED Loadlock Slit Valve Oring Type VITON Wafer Mapping STD Wafer Out of Cassette Sensor YES Cassette Present Sensor YES Transfer Chamber Options Selected Option Transfer Ch Manual Lid Hoist YES Robot Type CENTURA HP ROBOT Wafer On Blade Detector BASIC Loadlock Vent BOTTOM VENT Front Panel Selected Option Front Panel ANTI-STATIC PAINTED Signal Light Tower 4 COLOR SIGNAL LIGHT TOWER INCLUDING RED LIGHT 4 Color Signal Light Tower Configuration Selected Option Top Light Color RED Second Light Color YELLOW Third Light Color GREEN Fourth Light Color BLUE Signal Light Tower Buzzer ENABLED Second Signal Light Tower YES Remote System Controller Selected Option Controller Type 86 INCH COMMON CONTROLLER Cntrlr Electrical Interface BOTTOM FEED Controller Exhaust TOP EXHAUST Controller Cover Option YES System Monitors Selected Option System Monitor 2 TTW / different cable lengths Monitor Cursor 2 BLINKING CURSOR AC Rack Selected Option GFI 30mAMP AC Rack Types 84 INCH SLIM AC GEN RACK Exhaust Collar 84 INCH SLIM RACK EXHAUST COLLAR Umbilical Selected Option Ctrlr to Mainframe Umbilical 25Ft HX Control Cable Length 50Ft Heat Exchanger Hose Length 65Ft Pump Cable Length 65Ft RF Generator Cable 65Ft Pump Interface Only Selected Option Pump Interface Qty Interface Only.
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AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 Phase I est un réacteur conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il a une gravure de point d'extrémité SiH4/NH3/DOP avec une source RF 56MHz et est capable de graver des profondeurs jusqu'à 8,5 microns, avec un module de gravure à base de trichlorure de phosphore (PCl3). La chambre est construite en acier inoxydable et a un fonctionnement à basse température pour une meilleure compatibilité gravure/procédé. Le réacteur est livré avec une boîte de contrôle de processus et un sas séparé pour le chargement et le déchargement des chambres. AMAT Centura 5200 Phase I dispose d'une grande chambre de traitement, chauffée à l'intérieur, étanche au gaz. Cette chambre est conçue pour empêcher les particules et les réactifs d'attaque d'entrer dans la plaquette lors de la gravure. Il peut accueillir jusqu'à 2 pouces (5,08 cm) et 8000 lb (3,63 tonnes) de plaquettes semi-conductrices. La chambre dispose d'un équipement sous vide et d'une cheminée d'échappement avec des chicanes de déviation pour assurer une gravure uniforme et une faible contamination arrière. Le contrôleur intégré surveille le processus de gravure en mesurant la pression à l'intérieur de la chambre, l'état du système de distribution de gaz et le courant à travers le magnétron de l'alimentation. La chambre de procédé contient également un module de compensation automatique de la température (ATCM) pour améliorer la cohérence et les performances du procédé. L'ATCM a une gamme de 180 ° à 260 ° C et offre une large gamme de réglage d'optimisation de processus. Il dispose également d'un contrôle de température flexible avec des paramètres sélectionnables par l'utilisateur pour optimiser les paramètres du processus. Le processus de gravure au point final est conçu pour assurer un contrôle efficace et précis des profondeurs de gravure. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 Phase I dispose d'une source d'alimentation RF de 56 MHz et d'une unité de commande de processus en pleine forme d'onde. Cette machine permet à l'opérateur de graver des plaquettes avec des profondeurs de gravure variables et aide également à prévenir les dommages et les cicatrices de plaquettes. Enfin, Centura 5200 Phase I est conçu pour fournir un processus sûr, fiable et répétable avec un excellent résultat final. Il dispose de dispositifs de sécurité intégrés pour alerter l'opérateur en cas de défaillance potentielle. L'outil dispose également de fonctions de maintenance intégrée et de dépannage pour faciliter l'analyse et le dépannage. Par conséquent, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I est un atout idéal pour une production efficace de plaquettes semi-conductrices.
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