Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD #9036839 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 PVD (Physical Vapor Deposition) est un outil puissant et précis conçu pour le développement de procédés avancés. Cet équipement de dépôt de qualité industrielle offre une technologie de pointe qui peut fournir des dépôts de haute pureté et de haute performance pour la production de matériaux à couches minces utilisés dans diverses applications. Le système est capable de dépôts épitaxiés, amorphes et polycristallins avec une excellente uniformité et fiabilité et dispose d'un environnement autonome avec une transmission d'énergie efficace et un bruit de fond faible. La conception globale du réacteur PVD AMAT Centura 5200 comprend une chambre de chargement avant fermée qui est scellée pour empêcher l'entrée de contaminants externes. À l'intérieur de la chambre de réaction se trouve un environnement stable qui aide à maintenir l'homogénéité de la température à un niveau bas et qui fournit simultanément une alimentation uniforme aux gaz de processus multiples et indépendants nécessaires à une opération de dépôt réussie. De plus, la chambre de chargement avant est accessible et conçue pour le chargement et le déchargement d'échantillons rapides, sûrs et pratiques. Les composants clés du réacteur en PVD Centura 5200 de MATÉRIAUX APPLIQUÉS comprennent un support de substrat multizone en quartz RF qui permet à l'utilisateur d'ajuster le temps de séjour et le profil d'écoulement des gaz de procédé. Il a également la capacité de disperser efficacement les substrats pour un dépôt uniforme. Le réacteur est également livré avec plusieurs assemblages de tête de douche, qui permettent une répartition uniforme des gaz de procédé et un meilleur contrôle de l'uniformité du dépôt. De plus, le réacteur PVD 5200 offre des capacités de contrôle de la température et de refroidissement pour une évacuation efficace de la chaleur afin de maintenir un environnement stable et à basse température. L'unité intégrée de manipulation des pièces à base de robot assure un processus propre et efficace en fournissant une opération automatisée de manipulation des échantillons. En conclusion, le réacteur Centura 5200 PVD (Physical Vapor Deposition) est une machine à haute performance qui offre des résultats supérieurs pour les applications de dépôt en couches minces. Il offre une excellente uniformité, contrôle et stabilité, et sa conception innovante réduit la complexité des processus et élimine le besoin d'entretien fréquent. Cet outil fiable, efficace et polyvalent est la solution idéale pour le développement de processus avancés.