Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Super-E #9116891 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Super-E est un réacteur épitaxié haute performance, haute pureté, utilisé pour divers procédés épitaxiés, tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD). Ce réacteur dispose d'une spécification technique impressionnante, et est capable de taux de croissance jusqu'à 65 nm/minute, offrant le meilleur rapport coût-efficacité. La conception du réacteur épitaxié AMAT Centura 5200 Super-E en fait un outil fiable et efficace pour le traitement de divers matériaux, dont le silicium, le germanium et l'arséniure de gallium. Il a un levage de susceptor de style one-shot, permettant un rendement et une qualité maximum avec un temps d'arrêt minimal. Le suscepteur se soulève pour permettre une plus grande uniformité dans les zones de croissance du réacteur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur épitaxié Super-E Centura 5200 dispose d'un ensemble de ports d'injection de gaz hydrure qui sont positionnés de manière à assurer une excellente uniformité du débit de gaz au sein du réacteur. Cela garantit la plus grande qualité de croissance de tout substrat pour diverses applications, allant des LED et de la photonique à l'électronique de puissance et les communications sans fil. Le réacteur épitaxié Centura 5200 Super-E est également équipé d'un injecteur vertical à quartz à haute température, conçu pour augmenter la vitesse de traitement et le rendement du produit, ainsi que pour améliorer la sécurité et la fiabilité. Cet injecteur permet de délivrer et de contrôler avec précision des gaz à haute température, et est courant pour des applications telles que les passivations de nitrure de silicium. Pour une sensibilité supérieure à la croissance, le réacteur épitaxié AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Super-E est équipé d'un appareil de détection de température laser. Le système unique de détection de température aide à maintenir un taux de croissance constant, conduisant à des résultats de processus cohérents, indépendamment du substrat ou des paramètres de processus utilisés. Le réacteur épitaxié dispose également d'une unité intégrée de super-vibrations basses, qui assure des performances de croissance constantes même en cas de vibrations intenses. Cette machine réduit la quantité de chaleur générée, améliorant ainsi la qualité des substrats et des plaquettes. Le réacteur épitaxié AMAT Centura 5200 Super-E est un outil polyvalent et fiable pour la croissance épitaxiale et d'autres applications. Les caractéristiques impressionnantes du réacteur le rendent bien adapté à une variété d'applications et sont idéal pour une utilisation en laboratoire et dans les environnements de production. Son débit élevé et son faible coût en font un excellent choix pour les applications avancées où la qualité et l'efficacité sont primordiales.