Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP #118471 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance spécialement conçu comme une plate-forme polyvalente pour la croissance de films ultra-minces et de nanostructures. C'est un équipement CVD très flexible et à haute température (jusqu'à 1000 ° C) avec une large gamme de capacités et de fonctionnalités. AMAT Centura 5200 WxP dispose de deux chambres de réaction distinctes. La chambre principale du réacteur est le cœur du système CVD, la deuxième chambre étant utilisée pour des procédés auxiliaires tels que les procédés de pré-dépôt et de post-dépôt. La chambre principale du réacteur est capable de traiter simultanément des plaquettes de quatre pouces de diamètre, avec une grande homogénéité thermique sur la surface. La chambre de réaction a une température maximale de 1000 ° C, avec une plage de 0-1000 ° C par incréments de 1 ° C. Il est équipé d'une unité programmable de distribution de gaz à haute température, d'un régulateur de température et d'une machine de mélange de gaz, et d'un régulateur de débit massique pour une livraison précise de gaz. Le réacteur CVD est équipé d'une variété de technologies innovantes, y compris un outil propriétaire de chargement de gaz pulsé, un atout numérique en temps réel de contrôle de la température, et une fenêtre sacrificielle double quartz dans la chambre de réaction principale. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 WxP possède également une capacité avancée d'intégration thermique et non thermique de divers gaz de procédé, ainsi qu'un support pour jusqu'à quatre gaz de source différents simultanément. L'une des caractéristiques uniques du Centura 5200 WxP est sa technologie en boucle fermée, capable d'automatiser et de contrôler avec précision les processus de dépôt CVD sans intervention manuelle. Cela permet un contrôle automatisé des processus avec une intervention humaine minimale. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP peut être utilisé pour déposer une variété de matériaux à couches minces et de nanostructures, tels que des métaux, des oxydes, des polymères et des matériaux fonctionnalisés. Il s'agit d'une plate-forme de dépôt avancée capable de déposer un large éventail de matériaux complexes, des structures nanométriques aux matériaux diélectriques de pointe. La haute température et les capacités de dépôt ultra-minces du modèle le rendent idéal pour des applications de recherche impliquant des films ultra-minces et des nanostructures, comme l'informatique quantique et des capteurs. AMAT Centura 5200 WxP est un équipement CVD puissant et polyvalent, capable de produire une large gamme de films ultra-minces et de nanostructures. Sa régulation de température en temps réel avancée, sa charge en gaz pulsé et ses multiples capacités en gaz de procédé en font le choix idéal pour le dépôt de nanostructures complexes et de matériaux fonctionnels. Avec son automatisation en boucle fermée, APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP est bien adapté pour la recherche et les applications industrielles nécessitant un contrôle précis de la température et de l'efficacité.