Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD #9008251 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur WCVD Centura 5200 WxZ (dépôt chimique en phase vapeur) est un équipement avancé de traitement de semi-conducteurs conçu pour déposer des couches de couches minces sur des surfaces pour une gamme de produits. Le Centura 5200 WxZ est spécialement conçu pour le dépôt de couches minces uniformes et conformes pour les applications semi-conductrices et métalliques. Pour ce faire, on recourt à diverses techniques, dont le dépôt physique en phase vapeur à basse température (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique (APCVD) et le dépôt chimique en phase vapeur à large gamme (WCVD). Le Centura 5200 WxZ est équipé d'une chambre à vide pour éliminer les impuretés de l'environnement de dépôt, ce qui réduit les risques de contamination pendant le processus. De plus, la chambre est équipée d'un équipement de manutention de plaquettes multi-chambres qui permet un chargement et un déchargement efficaces des plaquettes tout en déposant des films. Le système de manutention des plaquettes facilite également la surveillance et le contrôle de chaque plaquette pendant le traitement. Le réacteur dispose également d'une unité intégrée de distribution de gaz in situ contrôlée par ordinateur qui délivre, surveille et contrôle précisément les flux de gaz et les milieux de transport afin d'obtenir une uniformité maximale dans le processus de dépôt. Le Centura 5200 WxZ est une machine puissante et performante avec des capacités de précision accrues. Il est capable de déposer des films d'épaisseurs et de textures variées pour une large gamme de produits, y compris des couches minces de nitrure de gallium (GaN) et d'oxyde de gallium (GaO), ainsi que des structures métalliques-oxyde-semiconducteur (MOS) pour des applications optoélectroniques. Cet outil avancé permet aux utilisateurs d'obtenir une plus grande répétabilité des processus et un débit plus élevé. En plus d'offrir un contrôle précis, le Centura 5200 WxZ offre également une fiabilité et une durabilité supérieures. L'actif est construit à partir de matériaux robustes qui sont conçus pour une exploitation supérieure dans les conditions les plus difficiles. Il dispose également d'un modèle avancé de contrôle des processus qui facilite la surveillance et la modification des paramètres en temps réel, garantissant des performances optimales en tout temps. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT Centura 5200 WxZ WCVD est un équipement fiable et puissant pour déposer des couches minces et obtenir une répétabilité de processus supérieure pour une gamme d'applications. Son système avancé de manutention des plaquettes et son unité précise de distribution de gaz permettent aux utilisateurs d'obtenir des films uniformes et conformes avec une répétabilité maximale. La qualité de construction supérieure de la machine en fait également un équipement solide et durable capable de résister aux conditions les plus difficiles.