Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #118476 à vendre en France
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ID: 118476
Taille de la plaquette: 8"
Poly Etch DPS System, 8"
Centura 5200 mainframe
Phase II facility
HP Robot
Widebody loadlocks
Position A: DPS R1 Poly Etch
Position B: DPS R1 Poly Etch
Position C or D: DPS R1 Poly Etch
Position E: Orienter
Advanced Energy RF20R generator
Advanced Energy RF5S generator
Amat 0 Heat Exchanger
Neslab HX-150 chiller.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur de gravure semi-conducteur avancé qui fournit des solutions de photolithographie haute performance pour des applications de gravure et peut être utilisé dans la production de circuits complexes. Il offre une large gamme de solutions de gravure et de dépôt pour divers besoins d'application et est très fiable pour des résultats reproductibles de haute qualité. L'équipement est conçu avec une combinaison unique de la génération de plasma double source et plusieurs systèmes de pompage auto-recharge. Le plasma double source permet des applications pour graver des matériaux multicouches ou des substrats beaucoup plus complexes et des tailles de caractéristiques. La chambre à vide possède également une fonction « Load-lock » qui permet de charger et décharger rapidement les puces tout en minimisant les contaminants. AMAT Centura 5200 est capable de fournir une large gamme d'épaisseurs de films, de formes de profilés et de tailles de caractéristiques. Le système est équipé de fonctionnalités logicielles automatisées, permettant aux utilisateurs de personnaliser les recettes de processus et de contrôler l'unité plus précisément. Il offre également une large gamme de fonctions de surveillance environnementale et de contrôle de rétroaction en ligne, permettant à la machine d'identifier rapidement les anomalies du processus et de réagir de manière appropriée. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 peut traiter une variété de matériaux, y compris SiO2, SiC, Al2O3, GaAs, GaN et d'autres matériaux. L'outil prend également en charge les processus de gravure avancés tels que la gravure de supports d'enregistrement magnétique et les applications MEMS. Il est également capable de générer un dépôt de film uniforme avec des rendements élevés et une excellente homogénéité de gravure. Centura 5200 offre une large gamme de variables de processus, y compris la température, la pression, le temps, les gaz réactifs et d'autres paramètres qui peuvent être réglés pour répondre à des besoins spécifiques d'application. Il offre également un contrôle et une répétabilité des processus supérieurs, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats cohérents et de haute qualité dans la production. En outre, l'actif est conçu avec un faible coût de propriété, offrant aux utilisateurs une longue durée de vie de service d'une exploitation fiable.
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