Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #146830 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 146830
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
DxZ System with 3 Chambers, 8"
RF cleaning type
Application: CVD
Platform Type CENTURA I BODY
SBC Board V452
Chamber Type
Position A DxZ Nitride
Position B DxZ Nitride
Position C DxZ Nitride
Position D Blank
Position E MULTI COOLDOWN
Position F
CHA - DxZ CHAMBER
Chamber Options
Process Kit Customer Option
Baratron Guage 10Torr / 1Torr
Match AE 3155094-003A
Heater Lift 0010-38426
RF Generator RFG 2000-2V
EPD 0500-01047
Heater Driver 0190-09419
CHB - DxZ CHAMBER
Chamber Options Selected Option
Process Kit Customer Option
Baratron Guage 10Torr / 1Torr
Match AE 3155094-003A
Heater Lift 0010-38426
RF Generator RFG 2000-2V
EPD 0500-01047
Heater Driver 0190-09419
CHC - DxZ CHAMBER
Chamber Options Selected Option
Process Kit Customer Option
Baratron Guage 10Torr / 1Torr
Match AE 3155094-003A
Heater Lift 0010-38426
RF Generator RFG 2000-2V
EPD
Heater Driver 0190-09419
CHE - COOLDOWN CHAMBER
Type Multi cooldown
CHF - (OA) ORIENTER
Orienter Standard
Gas Delivery Options
Pallet Options
Component Selection STANDARD
Valve Veriflo
Transducer MKS
Regulator
Filter
Transducer Displays
MFC Type STEC 4400
Gas Panel Pallet A
Gas Line Requirement
Gas Line Configuration
Line 1 Gas NH3
MFC Size 2 SLM
Line 2 Gas N2
MFC Size 5SLM
Line 3 Gas SiH4
MFC Size 200 SCCM
Line 4 Gas NF3
MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas N2O
MFC Size 1 SLM
Line 6 Gas CF4
MFC Size 3 SLM
Line 7 Gas N20
MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM
Line 8 Gas N2
MFC Size 5 SLM
Line 9 Gas HE
MFC Size 5SLM
Gas Panel Pallet B
Gas Line Requirement
Gas Line Configuration
Line 1 Gas NH3
MFC Size 2 SLM
Line 2 Gas N2
MFC Size 5SLM
Line 3 Gas SiH4
MFC Size 200 SCCM
Line 4 Gas NF3
MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas N2O
MFC Size 1 SLM
Line 6 Gas CF4
MFC Size 3 SLM
Line 7 Gas N20
MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM
Line 8 Gas N2
MFC Size 5 SLM
Line 9 Gas HE
MFC Size 5SLM
Gas Panel Pallet C
Gas Line Requirement
Gas Line Configuration
Line 1 Gas NH3
MFC Size 2 SLM
Line 2 Gas N2
MFC Size 5SLM
Line 3 Gas SiH4
MFC Size 200 SCCM
Line 4 Gas NF3
MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas N2O
MFC Size 1 SLM
Line 6 Gas CF4
MFC Size 3 SLM
Line 7 Gas N20
MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM
Line 8 Gas N2
MFC Size 5 SLM
Line 9 Gas HE
MFC Size 5SLM
Transfer Chamber
Transfer Ch Manual Lid Hoist YES
Robot Type CENTURA HP ROBOT
Robot Blade Option Ceramic Blade
Remotes
Heat Exchanger AMAT 0
Currently stored in a cleanroom
1996 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 est un système avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PE-CVD) qui fournit un environnement de processus propre et à basse température pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un réacteur à ultra-haut vide, fonctionnant horizontalement et offrant une flexibilité ultime avec une large gamme de recettes et de matériaux de procédé CVD. AMAT Centura 5200 utilise les fréquences hyperfréquences, le placage ionique et les sources de réaction renforcées par plasma pour obtenir des processus plus contrôlables et reproductibles pour déposer les couches minces sur le substrat, améliorant les performances et la fiabilité du dispositif. L'instrument peut contrôler avec précision et précision les températures et les débits des gaz sources pour les paramètres de processus requis, ainsi que la température du substrat lui-même. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 dispose d'un système de chauffage exothermique multi-zones pour maximiser la productivité, ainsi que d'un groupe de capteurs d'extrémité soigneusement placés dans chaque zone de réaction pour garantir des processus homogènes pour la formation cohérente de couches de couches minces de haute qualité. En fin de compte, l'épaisseur uniforme du film, accompagnée d'une analyse avancée du profil profond (DPA), de la surveillance des processus et des boucles de rétroaction garantissent la répétabilité de processus même extrêmement complexes. L'ajout d'un support de substrat de grande surface offre la flexibilité d'exécuter deux processus différents en même temps avec une empreinte minimale. En outre, le générateur RF/DC automatique avancé de Centura 5200 fournit un contrôle de puissance précis avec un temps de montée en puissance plus rapide que les systèmes traditionnels. Enfin, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 comprend un logiciel convivial qui permet une configuration plus rapide des processus, l'analyse des résultats, la formation de recettes, et plus encore. Il a été largement testé et certifié dans les principaux laboratoires du monde entier et est considéré comme l'un des systèmes PE-CVD les plus avancés et les plus efficaces disponibles.
Il n'y a pas encore de critiques