Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #188648 à vendre en France
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Vendu
ID: 188648
Style Vintage: 1999
RTP annealing system
Software version: B6.20a
System power rating: 208 VAC, 3 phase
Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader
Ch position A: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position B: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position D: single wafer cooling chamber N2
Ch position F: single wafer cooling chamber N2
Configuration:
(1) AMAT CENTURA 5200 standard mainframe body
(1) AMAT CENTURA 5200 mainframe transfer chamber
(2) Narrow body load lock chambers
(2) RTP XE chambers
(1) HP+ robot wafer handling assembly
(1) System controller / AC power box
(2) CRT monitor with light pen
Remote components:
(2) Ebara dry pumps, A30W
Bay Voltax heat exchanger
No equipment manuals
Currently installed
1999 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura 5200 est un réacteur à faisceau d'électrons haute performance et fiable utilisé dans la production de puces semi-conductrices. Ce réacteur de type chambre est conçu spécifiquement pour gérer le débit rapide, les paramètres de contrôle des processus serrés, le rendement maximal et les cycles de production exigeants. L'AMAT Centura 5200 dispose d'une chambre monobloc qui est placée à l'intérieur d'une enceinte à vide, avec le corps et les composants électriques, tels que les alimentations électriques, les éléments chauffants, les manomètres et la porte de la chambre, placés au-dessus. Le corps de chambre monobloc est en acier inoxydable, qui est spécifiquement conçu pour protéger les copeaux semi-conducteurs contre la contamination des particules et des espèces réactives en suspension dans l'air. La chambre de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est remplie d'un gaz inerte tel que l'azote, qui est ensuite chauffé à une température allant jusqu'à 400 degrés Celsius. Cette température augmente la pression du gaz à environ 1,2 torr. Le gaz est ensuite explosé à l'intérieur de la chambre par un canon à faisceau d'électrons. L'explosion à l'intérieur de la chambre crée un plasma adapté au traitement, à la gravure et au dépôt de films et de matériaux sur la puce semi-conductrice. La chaudière est un ensemble de deux éléments distincts, un cylindre extérieur motorisé et un collecteur diélectrique, qui aident à contrôler la répartition du champ RF à l'intérieur de la chambre et à assurer une uniformité optimale. Le cylindre intérieur est maintenu en place par des supports en céramique qui assurent de faibles pertes électriques, ce qui contribue à l'uniformité du plasma et à l'uniformité constante de la plaquette. Le canon à faisceau d'électrons situé à l'arrière de la chambre est utilisé pour allumer le gaz de procédé, puis l'énergie RF est appliquée sur la plaquette. Afin de contrôler les paramètres du processus, Centura 5200 offre une gamme de différentes options d'alimentation qui permettent des niveaux élevés de précision et de précision. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 est capable de délivrer des températures de pointe supérieures à 1000 ° Celsius avec un profil de température pointu pour s'assurer que le processus se déroule à la bonne vitesse. L'homogénéité des procédés et l'uniformité des plaquettes d'AMAT Centura 5200 sont parmi les plus élevées de l'industrie. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est un réacteur à faisceau d'électrons avancé, performant et fiable, capable de fournir une fabrication de semi-conducteurs hautement reproductible et fiable avec de meilleurs rendements et des temps de production réduits. Il est conçu pour répondre aux exigences les plus exigeantes de production de semi-conducteurs et offre un niveau plus élevé de précision de processus et de contrôle de processus.
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