Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9004510 à vendre en France

ID: 9004510
Taille de la plaquette: 8"
CVD System, 8" (3) Chambers W x Z Process.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur utilisé pour diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est spécifiquement conçu pour réaliser des substrats de matériaux tels que le silicium, l'arséniure de gallium et le silicium polycristallin, sans défaut, à haut rendement. Les principaux composants de l'AMAT Centura 5200 sont le four, la chambre principale et la chambre de procédé. Le four est le centre de puissance principal de l'équipement et est utilisé pour contrôler la température du système ainsi que fournir la puissance nécessaire pour les processus nécessitant des températures élevées ou le vide. La chambre principale est la zone principale de l'unité où le substrat est placé pour le traitement. Il contient également une partie de l'instrumentation et des commandes nécessaires au fonctionnement de la machine. La chambre de procédé est située à l'intérieur de la chambre principale et contient tous les équipements nécessaires au traitement proprement dit du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 peut effectuer une variété de processus, de l'implant dopant à la croissance épitaxiale, le strippage photorésiste, et la gravure. Il supporte également les flux de procédés avancés tels que les dépôts de couche atomique (ALD) et la planarisation mécanique chimique (CMP). L'outil dispose d'une vaste bibliothèque de recettes et les recettes peuvent être personnalisées pour des applications spécifiques. Centura 5200 est un actif entièrement intégré avec des contrôles et des technologies de pointe. Il dispose d'une interface homme-machine (HMI) conviviale qui permet un accès facile aux paramètres et aux recettes du modèle. L'équipement dispose également d'un faible contrôle du gradient thermique et d'une meilleure stabilité de la température, permettant une plus grande répétabilité et précision. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura 5200 est un excellent choix pour de nombreuses applications dans l'industrie des semi-conducteurs, fournissant des substrats à haut rendement, sans défaut et des flux de processus avancés. C'est un système de réacteur fiable et polyvalent, qui s'appuie sur l'engagement d'AMAT en faveur de la qualité et de l'innovation.
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