Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9061043 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 9061043
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Etcher, 8" Cassette nest plastic, 8" Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat) System information: Platform type: Centura (3) Process chambers SECS / GEM: Yes Chamber location / Type / Current process: Position A / MxP / Poly etch Position B / MxP / Poly etch Position C / MxP / Poly etch Position F / Orienter (Laser assy not available) Etch chamber: Chamber type: MxP Wafer clamp: Polyimide ESC BS He cooling: Yes He dump line: Yes Turbo pump: SEIKO STP-301CVB Endpoint type: Stand alone Monochrometer: Per chamber Generator model: ENI OEM-12B3 Max power: 1250w Lid temp control: PID Control Gate valve: Heated gate valve Matcher: SMA-1000 Process manometer: MKS 1Torr Gas panel: Manual valve: Yes Transducer: Yes Transducer displays: Yes Regulator: Yes Filter: Yes Gas panel facilities hook up: Single line drop bottom feed (Left side) Exhaust: Top Gas panel door interlock: Yes Gas panel exhaust interlock: Yes Gas panel pallet: Corrosive gas line: (2) Lines per chamber Inert gas line: (6) Lines per chamber MFC type: STEC SEC-7440MC Gas line (gas name, MFC size) ChA Line 1: CL2 / 80 / SEC-7440 Line 2: HBR / 100 / SEC-7440 Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440 Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440 Line 5: O2 / 40 / SEC-7440 Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440 Line 7: Ar / 100 / SEC-7440 Line 8: N2 / 100 / SEC-7440 ChB Line 1: CL2 / 83 / SEC-7440 Line 2: HBR / 100 / SEC-7440 Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440 Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440 Line 5: O2 / 40 / SEC-7440 Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440 Line 7: Ar / 100 / SEC-7440 Line 8: N2 / 100 / SEC-7440 ChC: Line 1: CL2 / 80 / SEC-7440 Line 2: HBR / 100 / SEC-7440 Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440 Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440 Line 5: O2 / 40 / SEC-7440 Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440 Line 7: Ar / 100 / SEC-7440 Line 8: N2 / 100 / SEC-7440 Mainframe: Facilities type: Regulated Loadlock type: Wide body Loadlock auto-rotation: Yes Wafer mapping type: Fast Wafer mapping sensor: Yes Cassette present sensor: Yes Transfer chamber manual lid hoist: Yes Robot type: HP Emo button: Front side Water leak detector: Yes Signal tower (front): Green, yellow, red (2) System monitor displays / controller: Front, remote Remotes: System controller & AC rack EMO button: Yes Smoke detector: Yes Line frequency and voltage: 50/60Hz, 208VAC, 3ph Remote UPS interface: Yes Generator rack EMO button: Yes Smoke detector: Yes Water leak detector: Yes Heat exchanger type: For wall: RISSHI CS-400SW-2 (0 - 80°C) For cathode: RISSHI CS-400SW-2 (0 - 80°C) Pumps type: LL Chamber: EBARA A30W Transfer chamber: EBARA A30W Ch A: EBARA A30W Ch B: EBARA A30W Ch C: EBARA A30W Gas scrubber: EBARA GTE-3 1996 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura 5200 est un réacteur haute performance spécialement conçu pour la production de semi-conducteurs de pointe. Il combine des technologies de dépôt avancées avec des capacités d'automatisation intégrées pour une flexibilité et un contrôle optimaux des processus. AMAT Centura 5200 dispose d'une chambre de dépôt hybride unique qui facilite les procédures de processus agressives, permettant à la fois des réactions à basse température et à haute température. Ceci permet aux utilisateurs de traiter plus rapidement, grâce à la méthode de dépôt hybride qui augmente le débit en réduisant les temps d'arrêt associés aux chambres d'échange. Ce réacteur permet aux utilisateurs de produire des films plus uniformes et cohérents avec un débit plus élevé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 dispose également d'un certain nombre de processus disponibles et personnalisables logiciel qui permet aux utilisateurs de personnaliser le produit à leurs exigences spécifiques. Les utilisateurs peuvent utiliser ce logiciel pour personnaliser les recettes de dépôt et les flux de traitement, en adaptant au mieux les fonctionnalités du réacteur à leurs besoins. Cela permet également aux utilisateurs de modifier et de répéter rapidement les processus afin d'améliorer l'optimisation et la fiabilité des processus. Le réacteur Centura 5200 dispose d'un système de diagnostic à distance sophistiqué qui permet un service rapide et facile et un dépannage. Le système intégré de contrôle automatisé et de diagnostic offre aux utilisateurs la flexibilité nécessaire pour diverses tâches, de la R-D à la production. Ces contrôles flexibles permettent également aux utilisateurs de maximiser les débits et de surveiller les paramètres de processus en temps réel. De plus, le réacteur Centura 5200 d'AMAT/APPLIED MATERIALS est conçu en tenant compte de la sécurité. Il offre un large éventail de garanties de sécurité et de protection de l'environnement, y compris des protecteurs et des dispositifs d'encastrement des chambres, afin de s'assurer que le réacteur fonctionne conformément à la réglementation environnementale. AMAT Centura 5200 est un réacteur avancé avec une large gamme de caractéristiques, ce qui en fait l'un des meilleurs réacteurs à haute performance sur le marché. Sa conception avancée des chambres de dépôt, ses capacités d'automatisation intégrées et ses contrôles flexibles en font une solution idéale pour diverses tâches, de la R-D à la production.
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