Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9071275 à vendre en France
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Vendu
ID: 9071275
Taille de la plaquette: 8"
Epi Reactor, 8"
Application: Sige Bipolar/BICMOS
Chamber type | Selected option:
Chamber A: (RH) Reduced pressure EPI
Chamber B: (RH) Reduced pressure EPI
Chamber C: (RH) Reduced pressure EPI
Chamber D: Empty
Chamber E: Empty
Chamber F: (CA) Single slot cooldown
EMO Guard ring
Chamber A/B/C:
Thickness control options: Accusett 2
Recipe control software: No
Third manometer: P/N 0220-35949, 200 Torr
Gas line isolation: Yes
Leak check port: None
RGA port and valve: None
Gas delivery options:
ATM Capability in GP Only: No
Gas panel type: Configurable
Gas panel exhaust: Chamber B side
MFC: P/N: 0221-18389, Unit 8561 MFC's
Filter: Millipore
Pump purge: Yes
Chamber A/B/C Gas Option:
SiHCl3: Not applicable
SiH2Cl2: Yes
SiH4: Yes
GEH4: Yes
Direct inject dopant: 2
Mixed dopant 1: Yes
Mixed dopant 2: Yes
Mainframe:
Loadlock type: P/N: 0220-35948 Narrow body load locks with tilt-out
WBLL Equalization: No
Cassette platform type: Universal
Common chamber options:
Variable speed blower: Yes
SW Monitor quartz pyrometer kit: 3
Lamps type: Ushio log life
Susceptors: Tabbed susceptor
Brands: Toshiba
Lift pin type: Hollow silicon carbide
Susceptor support shaft: NCP Susceptor support shaft
Tips: Silicon carbide removable tips
Exhaust inserts: Stainless steel
Lower liners: Non-vented
Pump isolation valve: No
Exhaust deposit reduction: N/A
Transfer chamber:
Wafer sensing: On the fly cneterfinding
Transfer chamber lid hoist: Yes
Robot: HP + ENP
Transfer chamber purge, 15 SLM: Yes
Diagnostics and control:
SECSTrace: Yes
Vacuum pumps:
Pump brand: Edwards
Loadlock chamber pump: Edwards iQDP40
Transfer chamber pump: Edwards iQDP40
Proces chamber pump: Edwards iH1000
Monitors: (1) Through the wall and (1) Table mount
Manual Set
Tools and kits:
Centura HT Temp profiling kit
Upper dome centering ring kit
HT Level 1 Consumable kit
(2) Additional Level 1 consumable kit
Additional Epi quartz and graphite spares:
(2) Reduced pressure upper dome
(2) Lower dome
(4) Spare susceptors
(4) Preheat rings
Manually input spare:
P/N: 3920-01120, 10-120 lb-in torque wrench
480 V with transformer, 60 Hz, 600 A
Currently installed
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un équipement de réacteur conçu pour des applications avancées en électrodéposition, gravure et traitement diélectrique. Il est équipé de masques photolithographiques de haute précision pour le traitement des motifs. Le système est conçu pour appliquer des traitements physiques et chimiques sur de grandes surfaces de substrats rapidement et efficacement. AMAT Centura 5200 est construit avec une enveloppe extérieure en acier inoxydable épaisse, qui offre une protection fiable et durable contre la corrosion et d'autres conditions environnementales. À l'intérieur de la coque, des modules de commande de pointe et une unité de transport robotique sont utilisés pour assurer la précision et la répétabilité des processus de la machine. L'outil dispose également d'un réseau automatisé de pompes, vannes et autres composants de contrôle de mouvement pour assurer une livraison fiable et précise des matériaux. L'actif peut accueillir plusieurs types de configurations de bain ainsi qu'une variété de matériaux de substrat, ce qui le rend adapté à diverses applications. En outre, l'utilisateur peut sélectionner la durée du lot et les paramètres de traitement appropriés en fonction du matériau traité. Le modèle prend également en charge la logique programmable embarquée, lui permettant de surveiller et de contrôler tous les paramètres nécessaires pour le processus spécifique, permettant un meilleur contrôle des conditions du processus. Le réacteur offre une large gamme de températures de fonctionnement allant de RT (température ambiante) à 350 ° C, et le débit maximal de 175 l/min ; le rendant adapté aux processus de placage à grande vitesse et haute précision. L'utilisateur peut également spécifier des paramètres personnalisés tels que la vitesse d'évaporation souhaitée, et l'équipement est capable de détecter et stocker les résultats de processus pour une référence future. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est un réacteur fiable doté d'une technologie de pointe pour fournir des procédés de placage, de gravure et de diélectrique précis, reproductibles et efficaces. Il peut facilement être configuré pour traiter de nombreux types de substrats et de configurations de bain, ce qui en fait un réacteur fiable et polyvalent.
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