Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9116514 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de haute performance conçu pour créer des films de haute qualité et des structures de dispositifs utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est capable de déposer du cuivre, du tantale, du tungstène et d'autres films sur des plaquettes jusqu'à 200mm de diamètre. AMAT Centura 5200 dispose d'une capacité de 28 plaquettes, d'un chauffage simultané du substrat et d'une homogénéité allant jusqu'à ± 3 ° C sur l'ensemble du substrat. Le réacteur CVD est équipé d'une source thermiquement protégée haute performance LaB6 (hexaboride de lanthane), ainsi que d'une commande d'obturateur avancée, d'une capacité de double gaz et d'un contrôle du débit d'impulsions pour fournir la température et l'uniformité nécessaires pour les films CVD haute performance. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est conçu pour assurer un dépôt de film uniforme et une uniformité à travers la plaquette, fournissant l'uniformité nécessaire pour le dépôt de films de haute qualité avec la plus faible variation possible d'une plaquette à l'autre. Centura 5200 est également équipé de plusieurs outils de surveillance des processus, assurant un dépôt de film précis et reproductible. Il s'agit notamment d'un système de spectroscopie optique d'émission en temps réel (RTOES), qui fournit des informations sur l'environnement plasmatique pendant les cycles de processus, et d'un système de collecte d'ions, qui mesure le spectre d'émission des ions dans l'environnement. Les données collectées par ces systèmes peuvent être utilisées pour surveiller avec précision le processus de dépôt et effectuer les ajustements nécessaires pour garantir des films de haute qualité. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est équipé d'un régulateur de débit de gaz et d'un système de détection des fuites de vide pour prévenir le risque d'erreurs de dépôt causées par l'exposition du substrat aux concentrations atmosphériques de produits chimiques réactifs. AMAT Centura 5200 comprend également une vaste gamme d'instruments et d'outils informatiques qui simplifient et accélèrent l'intégration et le contrôle des processus CVD complexes. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS Centura 5200 est conçu pour être un réacteur CVD haute performance pour l'industrie des semi-conducteurs, avec une large gamme de caractéristiques, y compris les capacités de contrôle des procédés fins, le dépôt simultané de double gaz, et la collecte et la surveillance des particules. Ses caractéristiques avancées visent à fournir un environnement de dépôt uniforme et répétable, assurant ainsi la production de films de haute qualité.