Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9145240 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur de gravure diélectrique haute performance utilisant la technologie de gravure plasma pour permettre la fabrication de semi-conducteurs à haut débit. Cet équipement fournit un environnement plasma très contrôlé, basse température et haute densité pour la gravure de caractéristiques délicates dans les couches de matériaux diélectriques avancés. Le système est composé d'une chambre à vide haute performance qui est capable d'atteindre des pressions de processus allant jusqu'à 5 Torr. Cette chambre est alimentée par une alimentation RF, permettant la création d'un plasma haute densité à graver à travers des structures complexes de la couche diélectrique. La conception de la chambre permet également une évacuation rapide, permettant à l'unité d'obtenir des temps de processus rapides et des rendements accrus. Une machine propriétaire d'injection de gaz permet la création de mélanges de gaz propices à la gravure plasma de différents types de matériaux diélectriques. En contrôlant le mélange de gaz, combiné à la puissance du plasma et à la température de la chambre, cet outil est capable de graver certaines des couches diélectriques les plus exigeantes. Le processus est encore amélioré par des composants non-actifs tels que les systèmes optiques haute résolution (HROS) et masques d'ombre. Ceux-ci permettent de créer des caractéristiques de haute résolution avec une distorsion minimale, ce qui est indispensable pour les procédés de réglage fin impliqués dans la fabrication de couches diélectriques. En plus du procédé de gravure par plasma, la Chambre offre également un environnement compatible avec les procédés de décapage résistants. Ceci permet l'élimination du matériau résistant, permettant la formation précise de composants métalliques et diélectriques, ce qui est critique pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. AMAT Centura 5200 fournit des procédés très précis et cohérents pour la gravure de couches diélectriques délicates. Grâce à la combinaison de technologies de pointe et de contrôles précis, ce modèle permet d'améliorer le rendement et le débit des procédés sans compromettre la qualité. Cet équipement est un outil crucial dans l'avancement des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs.