Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9184781 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (LPCVD) monocouche, à filière multiple, à couplage inductif plasma (ICP), conçu pour la fabrication de composants à l'échelle nanométrique à l'état solide utilisés dans diverses applications de dispositifs semi-conducteurs. Il dispose d'une chambre de procédé flexible qui peut être configurée pour le dépôt d'une large gamme de films, y compris des films en silicium (Si), des films en nitrure et des films en silicium neutre. Il dispose également d'un générateur RF de haute puissance qui permet à l'opérateur de contrôler avec précision la concentration des ions dans les plasmas. AMAT Centura 5200 est un réacteur multi-outils qui peut offrir une homogénéité de dépôt supérieure et des rendements de contrôle de processus pour la production de filière semi-conductrice pour les noeuds de technologie avancée. Le réacteur réduit le coût de propriété avec une interface utilisateur intuitive facile à utiliser et des recettes préprogrammées. La station d'échange automatique de plaquettes efficace permet une commutation rapide des tâches et des débits de plaquettes jusqu'à 81 plaquettes par heure en mode haut débit AMAT. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 offre une gestion thermique supérieure grâce au refroidissement des chambres et à la diffusion thermique simulée. Ceci permet un taux de dépôt élevé avec des épaisseurs de film cohérentes sur l'ensemble du substrat et des temps de processus rapides. La pression de la chambre est maintenue basse avec des chicanes réglables, ce qui aide la chambre de processus à atteindre une uniformité de température plus rapide. Centura 5200 est conçu pour atteindre des niveaux de défaut ultra bas avec un contrôle à cinq axes, un système de cartographie des plaquettes laser et une technique avancée de manipulation des plaquettes. La technologie intégrée de spectroscopie à transformée de Fourier rapide (FFT) sonde l'homogénéité du substrat au cours du processus. La fonction de contrôle des processus en temps réel de l'outil avancé permet aux opérateurs de détecter rapidement les non-uniformités de dépôt et d'ajuster les paramètres pour un meilleur traitement en quelques minutes. En intégrant les capacités de surveillance des processus et la flexibilité, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 permet d'améliorer le rendement et le débit, ainsi que d'accélérer le délai de commercialisation, même aux nœuds les plus difficiles. Cela rend l'outil extrêmement attrayant pour les fabricants de dispositifs et les instituts de recherche pour la fabrication de composants nanométriques.