Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9188519 à vendre en France

ID: 9188519
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
HDP CVD System, 8" Ultima TE process chamber Wafer shape: SNNF EMO Type: Turn to release Chamber configuration: Chamber A: HDP Ultima TE process chamber Chamber B: HDP Ultima TE process chamber Chamber C: HDP Ultima TE process chamber Chamber E: Multi cooldown chamber Chamber F: Orient chamber Loadlock configuration: Loadlock type: Wide body Auto rotation Cassette type: 200mm Mapping function: FWM Vent type: Variable speed Fast vent option Mainframe configuration: Buffer robot type: HP+ Buffer robot blade: Ceramic blade Remote monitor: Table mount Clean system: RPS ( Remote plasma) clean Sub-system configuration: Chiller RF Generator type: ETO Gas panel configuration: Normal gas panel Turbo pump: ADIXE ATH2300M Gate valve: NC Electrical configuration: Line voltage: 208V Full load current: 320 A Frequency: 50/60Hz CE Safety mark: English 2003 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 est un équipement de traitement thermique monobloc qui permet la fabrication de circuits intégrés semi-conducteurs (CI) avancés. Il s'agit d'un outil utilisé par les fabricants de semi-conducteurs pour la gravure, le nettoyage et d'autres opérations associées à la fabrication de dispositifs. Le système a une configuration à six niveaux de la chambre de processus qui permet l'introduction d'une variété d'espèces corrosives, agressives et autres pour un large éventail de traitements. Le réacteur AMAT Centura 5200 supporte une variété de procédés, y compris la gravure humide et sèche, le dépôt, le nettoyage, la passivation et la pulvérisation métallique. Il est conçu avec une technologie brevetée de contrôle de zone et une unité unique de rotation de wafer à double gaz qui permet de contrôler avec précision les conditions de processus à différents niveaux de l'outil. La combinaison de ces technologies permet au laser de contrôler avec précision les processus thermiques pour permettre la fabrication de niveaux d'intégration et de performance plus élevés. L'outil est conçu pour être utilisé dans des environnements de production à haut volume et il est capable de traiter jusqu'à 500 plaquettes par heure. L'accès aux opérations de la machine est fourni via une interface utilisateur graphique intuitive (interface graphique) avec un écran tactile qui permet un contrôle optimisé des paramètres et un accès rapide aux données de traitement. L'outil est doté d'une suite d'utilitaires automatisés qui fournissent une gamme de fonctionnalités pour faciliter le fonctionnement du réacteur. Il s'agit notamment de la sécurité du personnel, du suivi des plaquettes, du contrôle de la qualité des lots de plaquettes et de la configuration automatique des plaquettes qui permet de surveiller l'historique des processus pour assurer des performances répétables. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 est équipé pour réduire au minimum les préoccupations environnementales et de sécurité associées à la fabrication des puces. Il est conçu pour réduire au minimum l'exposition chimique et les autres conditions dangereuses associées à la production de CI avancés. L'actif est conforme à une variété de règlements et de normes, y compris SEMI S2 et S8. En conclusion, le réacteur Centura 5200 est un modèle de traitement thermique très avancé conçu pour répondre aux exigences de la prochaine génération de fabrication de semi-conducteurs. Sa gamme de fonctionnalités fournit une gamme de services publics automatisés pour faciliter le fonctionnement et réduire les risques potentiels pour la sécurité et l'environnement. C'est un outil capable de répondre aux plus hauts niveaux de performance et de répétabilité pour la fabrication avancée d'IC.
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