Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9205664 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 9205664
Style Vintage: 2003
CVD System, 8" Open cassette (4) WxZ MCVD Chambers Transfer robot: HP Robot (9) Gas channels RF Generator: ENI OEM-12B3 (Each chamber) RF Matcher: 0010-09750X (Each chamber) 2003 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 est une ligne de modules de procédés avancés à base d'oxydation conçus pour offrir des performances supérieures dans un environnement de fabrication de semi-conducteurs diversifié. Le module offre une large gamme de caractéristiques telles que la conception de chambres doubles pour une meilleure uniformité et une capacité de haute pression allant jusqu'à 20 Torr qui est idéal pour les petites tailles de fonctionnalités. En outre, AMAT Centura 5200 fournit un équipement de gestion thermique efficace qui comprend un générateur RF de haute puissance qui assure une stabilité ajoutée et un contrôle de l'équilibre de la température. Le réacteur fait partie de la plate-forme Centura entièrement intégrée d'AMAT qui comprend une gamme complète de matériels, logiciels et accessoires comprenant une interface de contrôle manuel, plusieurs ports d'instrumentation, etc. pour une grande variété d'applications. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 fournit un système de procédé multi-chambres optimisé pour les procédés de dépôt d'oxyde, de gravure d'oxyde et de CVD, permettant simultanément silane en aval, nitrure en aval et oxyde en aval. Cela permet aux utilisateurs de configurer facilement le réacteur à leur application, que ce soit par l'utilisation d'une intégration transparente avec le logiciel CVC ou par l'utilisation de paquets d'automatisation APPLIED MATERIALS qui peuvent être intégrés au réacteur. De même, l'unité est compatible avec une large gamme de composants matériels qui assurent un contrôle accru des processus et un haut niveau de précision et de répétabilité. Ces composants comprennent un support de substrat rotatif intégré, des modules à température contrôlée, un mandrin de plaquette contrôlable par processus, des porte-produits latéraux et des contrôleurs de débit massique. En termes de compatibilité des matériaux, Centura 5200 est conçu pour être utilisé avec une large gamme de matériaux, y compris SiO2, SiNx, Si, Al2O3 et W. En outre, le réacteur peut être accordé à des substrats spécifiques, permettant aux utilisateurs d'atteindre des conditions de processus optimisées. En outre, les algorithmes de contrôle avancés de la machine et les fonctions d'automatisation intégrées fournissent une uniformité de processus avancée avec une variation minimale entre les plaquettes. Cela garantit un rendement de 100 % au niveau de la plaquette et des performances de l'appareil plus élevées. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reactor offre un contrôle avancé des procédés, un fonctionnement à grande vitesse et une répétabilité supérieure pour optimiser les performances des appareils dans un environnement de fabrication moderne.
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