Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9247619 à vendre en France
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ID: 9247619
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
DPS Etcher, 8"
Wafer shape: SNNF
EMO Type
Chamber configuration:
Chamber A, B: DPS Metal process chamber
Chamber C, D: ASP Process chamber
Chamber E: Cool down chamber
Chamber F: Orient chamber
Load lock:
Load lock type: Narrow body
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: FWM
Fast vent option
Mainframe:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Buffer robot
Buffer robot blade: Stander blade
Status light tower
Remote monitor: Table mount
(2) Chillers: HX-150 and Stead head0
(2) OEM-12B3 RF Generators
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
NESLAB System II Heat exchanger
Control rack
Local AC rack
Accessories
Cables
Electrical configuration:
Line voltage: 208 V
Full load current: 300 A
Frequency: 50 / 60 Hz
CE Marked
1997 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haut rendement entièrement automatisé conçu pour répondre aux exigences de production exigeantes des industries de l'électronique, de l'optoélectronique, du revêtement dur et des cellules solaires. AMAT Centura 5200 offre des configurations évolutives et modulaires, permettant la manipulation d'une grande variété de matériaux et de chambres de procédés. Il utilise des niveaux d'uniformité thermique horizontaux et verticaux pour répondre à un processus de dépôt précis. Le dépôt à grande vitesse et l'amélioration de la stabilité du réacteur augmentent le débit tout en conservant des résultats précis. Les chambres de traitement à haute température sont conçues pour permettre un débit de plaquettes plus rapide et un contrôle précis des dépôts. Son ensemble d'outils de dépôt physique en phase vapeur offre un approvisionnement en matériaux très précis, un contrôle dynamique du gaz et des réglages personnalisés du débit de gaz. En outre, il dispose d'une précision de point d'extrémité supérieure et d'une grande capacité de traitement des nitrures. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est très polyvalent, offrant une automatisation avancée et des capacités programmatiques pour produire des résultats de traitement répétitifs. Son architecture de chambre exclusive offre une homogénéité de température supérieure avec une répétabilité améliorée et une qualité de performance globale. Centura 5200 est adapté à une gamme de matériaux, tels que le silicium, l'oxyde d'aluminium, le silicium polycristallin, et une gamme de métaux et d'alliages, jusqu'à des températures de 900 ° C. Le système peut être configuré pour accueillir des plaquettes de 4 à 8 pouces, offrant une flexibilité accrue. La maintenance totale d'AMAT comprend la maintenance préventive complète, le support informatique technique et les mises à niveau logicielles. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est un réacteur CVD puissant et fiable conçu pour le dépôt de matériaux avancés sans nécessiter de longs cycles de refroidissement et de chauffage. Le système est une solution idéale pour les fabricants qui cherchent à augmenter l'efficacité et à améliorer les performances des processus.
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