Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9251052 à vendre en France
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ID: 9251052
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2005
CVD System, 8"
WXZ (4) Chambers
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un équipement avancé de réacteur monocouche à basse pression conçu pour fournir un dépôt de couches minces à base de plasma de haute qualité pour des applications avancées en microélectronique, MEMS et optoélectronique. Le système utilise la technologie de traitement AMAT éprouvée pour fournir un dépôt de film uniforme et sans défaut pour des étapes de processus critiques comme la gravure de grille ou le dépôt de couches de protection ou de planarisation. L'AMAT Centura 5200 est équipé de diverses sources de dépôt, dont la résonance cyclotron électronique (ECR) ou des sources à plasma inductif (ICP), ainsi que d'un champ magnétique à fort courant de Foucault pour faciliter le dépôt uniforme et répétable des films. Cette unité utilise une conception très modulaire et évolutive pour permettre des configurations de sources multiples. Diverses personnalisations des sources sont disponibles pour faciliter le dépôt de couches et de caractéristiques spécifiques de couches minces. La machine dispose d'un débit exceptionnellement élevé de 500 plaquettes/heure, contribuant à maximiser l'efficacité de la production. En outre, sa capacité avancée de régulation de la température du substrat permet de minimiser les contraintes thermiques et d'assurer des résultats cohérents et reproductibles, même pour les substrats délicats. Ce contrôle de température aide les matériaux appliqués Centura 5200 à retirer les hypothèses des applications sensibles à la température et à réduire le nombre d'étapes du processus. L'outil dispose également d'un actif de contrôle du plasma (PCS) intégré pour un contrôle fiable de la source de plasma, permettant un réglage précis et un réglage fin des paramètres du processus. Grâce à la surveillance intégrée du point final, les utilisateurs peuvent surveiller et analyser divers paramètres tels que la consommation de gaz, la pression, la puissance RF et la température pendant le processus de dépôt. Cela aide à s'assurer que le processus est maintenu aux normes les plus élevées et maintient le modèle en fonctionnement à des performances de pointe. Pour plus de commodité, le Centura 5200 comprend une serrure intégrée qui permet à l'équipement de fonctionner dans un environnement de production par lots. Cette serrure de charge, ainsi que ses capacités à haut débit, font d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 un choix idéal pour les environnements de production avancés cherchant à étalonner leurs rendements de production rapidement et efficacement. Dans l'ensemble, AMAT Centura 5200 est un excellent choix pour une large gamme d'applications de dépôt. Son évolutivité et sa flexibilité, ainsi que ses capacités de contrôle du plasma, de débit élevé et de température, en font le choix idéal pour des applications de production exigeantes dans les industries de la microélectronique et de l'optoélectronique.
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