Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9253559 à vendre en France

AMAT (MATÉRIAUX APPLIQUÉS) AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura 5200 est une chambre de procédé avancée pour l'oxyde, le nitrure et d'autres matériaux. Ce réacteur est utilisé principalement pour la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs d'emballage avancés, et est l'un des réacteurs les plus populaires et polyvalents pour ces domaines. Il a des capacités polyvalentes et offre des capacités avancées pour des rendements de production supérieurs. Le réacteur AMAT Centura 5200 est une chambre de traitement très flexible et avancée, d'une capacité maximale de 2,5 à 16 pieds cubes et d'une pression supérieure à 0,1 mTorr. Il est doté de diverses capacités de traitement, dont le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), le dépôt chimique en phase vapeur atmosphérique et à basse pression (APCVD et LPCVD), le recuit à haute et basse température et le traitement thermique rapide (RTP). Il est équipé d'une fonction « Cool Edge » en attente de brevet pour réduire la contrainte thermique sur le substrat du procédé et d'un système intégré de nivelage et de contact à deux micromètres pour améliorer la précision du nivellement du substrat. Il dispose également d'une gamme complète de fonctionnalités et d'avantages supplémentaires, tels que : Système d'optimisation automatique de chambre à réglage adaptatif, niveleur de substrat de précision avec système de contact double micromètre intégré, Station de pompage à double port, Alimentation autonome et système de distribution de gaz avec la technologie Ultra-Flow. Il est conçu pour répondre aux besoins de production d'une gamme complète de dispositifs semi-conducteurs, tels que : plaquettes monocristallines, MEMS, CMOS, IC et autres dispositifs d'emballage avancés. La performance et la fiabilité accrues du réacteur Centura 5200 de APPLIED MATERIALS améliore le rendement global et la cohérence du procédé, permettant la production de produits plus fiables. Sa conception compacte et sa facilité d'utilisation le rendent idéal pour les applications de recherche et de production. Ses performances fiables et son large éventail de capacités de processus en font le choix idéal pour un environnement moderne de fabrication de semi-conducteurs.