Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9256948 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur à base de plasma conçu pour les procédés avancés de dépôt en phase vapeur. Le réacteur est utilisé pour le dépôt de couches minces sur différents substrats. Le réacteur est équipé d'un système de distribution de gaz source de précision, capable d'assurer un contrôle et une précision inégalés pendant le processus de dépôt. Le gaz source est utilisé pour créer un environnement plasma uniforme dans la chambre de procédé, permettant un contrôle précis de la vitesse de dépôt, de la température et de l'uniformité sur le matériau du substrat. L'AMAT Centura 5200 dispose d'une géométrie de chambre automatisée qui réduit le temps nécessaire au nettoyage et à l'entretien, tout en minimisant le besoin d'alignement manuel. Il est également équipé d'un générateur de plasma intégré, qui pousse le substrat et d'autres composants à travers une zone précise de préchauffage et de post-traitement thermique, assurant que tous les matériaux utilisés pendant le processus de dépôt sont correctement traités et préchauffés avant le dépôt. Le réacteur est équipé de systèmes avancés de contrôle de la rétroaction, permettant à l'utilisateur de surveiller les paramètres du processus en cours et de régler la précision du processus au besoin. La rétroaction permet également à l'utilisateur de définir des paramètres spécifiques au processus, ce qui permet d'obtenir des résultats plus cohérents et plus reproductibles à partir du réacteur. Le générateur de plasma avancé assure un environnement plasma uniforme dans toute la chambre de procédé, ce qui conduit à une vitesse de dépôt très uniforme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est conçu pour des procédés très complexes tels que ceux impliquant de grands substrats complexes et des géométries d'empilement multicouches, ce qui les rend adaptés aux applications avancées de nanostructure et de MEMS. La capacité d'exécuter plusieurs modules de processus au sein d'une même chambre assure un débit élevé, avec une répétabilité élevée ; en outre, la géométrie automatisée de la chambre permet à l'utilisateur d'effectuer des tâches complexes de dépôt tridimensionnel rapidement et avec précision, tout en offrant une empreinte physique compacte. Enfin, Centura 5200 est un réacteur haut de gamme, avec une multitude de caractéristiques non standard qui le rendent parfait pour des applications avancées et innovantes. Le système intégré de distribution de gaz de source, la géométrie automatisée de la chambre et la génération avancée de plasma permettent un contrôle et une précision inégalés pendant le processus de dépôt, tandis que la conception modulaire facilite la modification ou la mise à niveau des fonctions du système au besoin. Toutes combinées, ces caractéristiques font d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 un choix idéal pour le dépôt de couches minces avancées et les nanostructures.