Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9261088 à vendre en France

ID: 9261088
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
CVD System, 8" Process: HPTEOS (2) Loadlocks Robot assembly (3) CVD Deposition chambers Chamber type: DxZ Includes: (5) EBARA Pumps System controller AA20 Loadlock pump AA40W Pump AA70W Pump AA20 Buffer pump ADCS TEOS Cabinet TEOS Canister size: (5) Gallons Process tank pressure (Liquid Cabinet), TEOS: 35 AMAT 1 Heat exchanger Heat exchanger temperature: 65°C Mainframe: OTF HP End Enduro Robot VEXTA Stepper motor, 5-Phase Process chamber: (3) ADVANCED ENERGY RFG 2000-2V RF 1 Generators (3) ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF 2 Generators (5) ADVANCED ENERGY 3155094-003A RF Matches MKS 122BA-0100EB-S Pressure manometer, 100 torr Pressure control: Throttle valve 0040-32148 Heater Process temperature: 400°C MFC Gases: N2: 3 slm O2: 50 sccm NF3: 500 sccm C2F6: 500 and 1000 sccm O2: 2 slm He: 1 and 2 slm LFM: STEC, TEOS 1.5 g/min 0500-01047 Endpoint 3870-04383 Injector valve IV Line temperature, TEOS: 100 Gasline temperature: 100 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur de fabrication de plaquettes à semi-conducteurs de haute performance conçu pour la production de dispositifs conditionnés de pointe. Le réacteur est construit sur la technologie brevetée de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) de l'APM. AMAT Centura 5200 est un réacteur de fabrication de plaquettes semi-conductrices de pointe qui utilise la technologie PECVD. Le modèle 5200 fournit un moyen efficace de produire des puces de haute qualité avec des défauts minimes. Le réacteur est capable de dépôts métalliques et diélectriques, de gravures et de traitements post-procédés. Le PECVD offre une répétabilité de processus de haute précision, un meilleur contrôle de la contrainte d'oxyde et des épaisseurs de film, ainsi qu'une meilleure résistance aux dommages causés par l'électricité statique. Cela permet aux puces fabriquées avec des MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 de présenter des opérations à haut rendement avec une fiabilité exceptionnelle. Centura 5200 peut traiter des plaquettes allant de 2 pouces à 12 pouces de diamètre. Le réacteur est équipé de systèmes avancés de contrôle de mouvement, ainsi que de systèmes avancés de contrôle thermique et de manutention des matériaux pour une précision de production et une répétabilité maximales. Le réacteur comprend deux mélangeurs à gaz réactifs et un contrôle automatisé du débit de gaz afin d'assurer le plus haut niveau de précision dans la production. Ces caractéristiques permettent des procédés spécialisés qui peuvent améliorer la qualité des copeaux produits sur AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200. AMAT Centura 5200 offre une large gamme de capacités, y compris le contrôle de précision du procédé, la cuisson rapide, l'adhérence supérieure, les rendements améliorés et la production réduite de particules. Cela permet la production de copeaux de meilleure qualité à moindre coût. La technologie de pointe du réacteur permet également aux fabricants d'explorer de nouveaux procédés plus rentables. Pour garantir une performance optimale, APPLIED MATERIALS Centura 5200 est équipé de systèmes de diagnostic qui détectent les problèmes du système et permettent le dépannage. L'équipe de soutien de l'usine est disponible pour fournir une assistance aux clients qui ont besoin d'assistance avec leurs systèmes. Le réacteur Centura 5200 offre une solution puissante et efficace aux problèmes de production de semi-conducteurs. Construit avec la technologie avancée PECVD, le réacteur fournit une production de puces haute performance et fiable. Cela permet d'améliorer les rendements, d'améliorer la qualité des copeaux et de réduire les coûts de production. Le réacteur dispose également d'un large éventail de caractéristiques, y compris le contrôle de mouvement avancé, le contrôle thermique, les systèmes de manutention des matériaux et le contrôle automatisé du débit de gaz. Sa conception flexible fait d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 un compagnon idéal pour toute ligne de fabrication de semi-conducteurs.
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