Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9262487 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la fabrication de semi-conducteurs électroniques de pointe. Il est utilisé pour déposer des couches minces complexes sur des substrats tels que le silicium, l'aluminium, le verre et l'acier. Le réacteur utilise des sources de plasma DC et RF pour la gravure, le dépôt et le nettoyage. AMAT Centura 5200 est particulièrement utile pour le dépôt de couches minces composées III-V et II-VI, en raison de sa configuration de pulvérisateurs hybrides spécialisés combinés à un équipement à plasma double source. Cette combinaison unique offre aux utilisateurs une extraordinaire uniformité, même sur de très grandes séries. De plus, la source DC a une uniformité et une répétabilité exceptionnelles. La grande capacité et la grande vitesse de traitement des MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est rendue possible grâce à son contrôle breveté, vertical, in situ du flux de réactifs. Cela permet à l'utilisateur d'optimiser le processus sur une base wafer-by-wafer, créant un film mince uniforme et reproductible. Le système dispose d'une unité de détection d'extrémité très sensible pour un contrôle précis du dépôt de couches minces, permettant le dépôt de couches minces avec un excellent contrôle de la composition, une qualité de surface supérieure et une uniformité couche-couche supérieure. La machine dispose également d'une chambre de procédé chauffée pour éviter la formation de condensation à la surface des substrats, offrant aux utilisateurs un contrôle de procédé plus précis, répétable et à long terme. De plus, l'outil bénéficie d'un faible taux de particules et d'une excellente propreté de la chambre de procédé. Cela permet d'utiliser une plus grande gamme de tailles et de substrats de plaquettes, ainsi qu'une plus grande gamme d'étapes de processus et de températures. Centura 5200 a une capacité de charge massive de 23 "/580mm, ainsi qu'une chambre de procédé sous vide avec une pression maximale de 1x10-5 torr. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 a été conçu pour fournir aux clients une technologie CVD de pointe et des capacités précises de dépôt de couches minces sur toute la surface de la plaquette. Il fonctionne régulièrement, jour après jour, avec le plus haut niveau de fiabilité, de répétabilité et d'uniformité possible pour la production de semi-conducteurs.