Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9364581 à vendre en France

ID: 9364581
Taille de la plaquette: 2"-6"
Style Vintage: 2014
PECVD Systems, 2"-6" 2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur de traitement à semi-conducteur très avancé et polyvalent conçu pour les applications de dépôt isolant post-grille, de salicide et de dépôt en couche atomique (ALD). Il s'agit de l'équipement de dépôt standard de l'industrie utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur est principalement utilisé dans la fabrication de transistors à couches minces, de semi-conducteurs, de diodes électroluminescentes, de capteurs et d'autres composants semi-conducteurs. L'AMAT Centura 5200 est de conception modulaire, ce qui réduit le besoin de bras de transfert monobloc complexes et permet d'effectuer les opérations plus efficacement. Il possède également plusieurs caractéristiques avancées, dont une source et une cible modulaires, auto-alignées, une gravure à plasma à couplage capacitif (CCP), une source de plasma à distance (RPS) pour le dépôt à ultra-basse pression et un système intégré de plasma de confinement magnétique (ICP) pour des taux de gravure élevés. Ceci le rend adapté à diverses applications dont l'oxydation thermique classique, le dépôt à haute vitesse de pulvérisation et le dépôt à haute température de nitrure de silicium. Avec son unité de distribution de gaz à basse température, APPLIED MATERIALS Centura 5200 assure un dépôt en couche mince très uniforme et conforme pour le traitement des dispositifs semi-conducteurs haut de gamme. Il est capable de fournir des caractéristiques aussi minces que 15 angströms de diamètre, ce qui le rend idéal pour les couches d'isolation de grille et les couches de contact. L'environnement sous vide du Centura 5200 permet également un traitement très précis et reproductible des matériaux diélectriques, métalliques et autres. La machine est également en mesure de relier directement à un certain nombre de sources de gravure, y compris l'implantation d'ions sources de plasma (PSII), la gravure de plasma profondément réactif ionique (DRIE), et la gravure de faisceau d'ions réactifs (RIBE). AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 offre également une gamme de systèmes de contrôle automatisés, permettant aux opérateurs de réaliser des recettes diverses de haut niveau avec une supervision minimale de l'opérateur. Il dispose d'une gamme complète d'inspections visuelles, de capacités d'apprentissage automatique, de configuration de plusieurs fours et d'un large éventail d'algorithmes de préparation d'échantillons. Cela garantit que les résultats du dispositif sont cohérents et reproductibles. En résumé, AMAT Centura 5200 est un outil très avancé et polyvalent conçu pour les applications de traitement des semi-conducteurs. Il offre une large gamme de fonctionnalités, y compris la conception modulaire, AVS et RPS pour le dépôt ultra-basse pression, les actifs de livraison de gaz à basse température, les configurations multiples de four et les systèmes de contrôle automatisé. Cela le rend très adapté à la production de composants semi-conducteurs avancés.
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