Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9401874 à vendre en France
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ID: 9401874
Dry oxide etcher
Dual process chambers
Control
Power cabinet
Transformer module
SEIKO Turbo pump controllers
RF Cabinet
(2) ENI OEM-12B3 RF Generators
(2) BOC EDWARDS iQDP80 Vacuum pumps
(2) iQDP40 Vacuum pumps
(2) SMC INR-496-002D-X007 Recirculating chillers
Power supply: 208 V, 3 Phase, 60 Hz, 72 kVA.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 est un réacteur polyvalent et performant conçu pour la production en grand volume de dispositifs semi-conducteurs. Avec une température de procédé maximale de 650 degrés Celsius et une atmosphère d'azote et d'hydrogène ultra-haute pureté, cette chambre offre le plus haut degré de stabilité thermique et de propreté pour les applications de gravure, de dépôt et d'élimination des impuretés les plus exigeantes. AMAT Centura 5200 est équipé de plusieurs technologies de pointe, y compris la source de plasma multi-modes et la capacité à haute température extrême, permettant aux utilisateurs de réaliser une variété de processus avancés en même temps pour une productivité maximale. La source est capable de produire une large gamme de plasma de faible puissance, de bombardement ionique et de plasma RF de forte puissance pour les processus de gravure, de strippage ou d'implantation. À une pression impressionnante de 30kg/cm ², le creuset entièrement en céramique construit, six vannes élémentaires à fente de gaz permettent de contrôler et de réguler avec précision le débit du procédé. Le four à haute température fournit des températures maintenues et régulées avec précision, tandis que la fenêtre d'inspection mécanique se compose d'un écran de visibilité et de rayonnement pour protéger davantage les utilisateurs contre les conditions dangereuses. L'uniformité de température et la stabilité de température sont maintenues par un équipement intuitif de régulation de température composé de plusieurs capteurs internes et externes. Un moniteur numérique avancé et facilement programmable permet aux utilisateurs de surveiller une grande variété de paramètres tels que la composition du gaz de chambre, la pression du bol, le débit de gaz et la température du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système de refroidissement de Centura 5200 permet un refroidissement fiable et uniforme de différentes parties de la chambre, et son cycle de refroidissement peut être adapté aux exigences spécifiques du processus. En outre, la chambre est équipée de plusieurs composants montés pour faciliter l'installation, l'entretien et le déménagement faciles et propres. Enfin, une unité d'isolement interne permet de réduire au minimum les pertes de procédé et la contamination, et une machine intégrée de purification de l'air assure un environnement de travail sûr. Ainsi, le Combined Centura 5200 offre un rapport qualité/prix imbattable, permettant à une grande variété d'utilisateurs de bénéficier de son ensemble de fonctionnalités avancées.
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