Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i #9211673 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i
ID: 9211673
EPI System.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i est un réacteur à plasma avancé conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il dispose d'un réseau multi-électrodes ancré pour fournir des vitesses de gravure et de dépôt avec un contrôle total du processus et la précision. Le réacteur utilise une conception unique de chambre à plasma pour permettre l'optimisation de la densité du plasma à un taux ou niveau de puissance donné, assurant uniformité et répétabilité même à des niveaux de puissance élevés. AMAT Centura ACP P3i est capable de soutenir divers processus à base de plasma ; y compris la gravure, le dépôt et la gravure des dépôts. Il est capable de supporter une gravure diélectrique à faible k, un dépôt sélectif SiGe et une couverture, et peut réaliser une densité SRAM plus élevée avec une formation de cellules mémoire plus rapide pour améliorer le rendement et la fiabilité du dispositif. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura ACP P3i utilise une technologie de pointe de sources de plasma avec des systèmes de diagnostic et de contrôle avancés pour le contrôle et l'optimisation des processus. Il est capable d'obtenir les résultats les plus difficiles tels que des taux de gravure faibles, des taux de dépôt élevés et des temps de cycle courts. Centura ACP P3i est équipé d'une distribution d'électrodes à haut rendement qui contribue à minimiser la sous-cotation, améliorant ainsi la qualité du procédé. L'équipement d'écoulement massique du réacteur fournit un débit de gaz précis tout au long du processus, et le système de refroidissement du substrat aide à maintenir une température précise. Ses faibles pertes de puissance et sa faible consommation d'énergie se traduisent par un moindre coût par tranche et une meilleure efficacité de production. Le P3i dispose d'une unité de sécurité robuste, avec des sources d'ions de sécurité en cas de défaillance et du matériel d'essai de billettes scellé avec contrôle traçable NIST. Le P3i est conçu pour répondre aux normes de sécurité SEMI, et il est compatible avec la plupart des systèmes d'automatisation fab pour l'intégration avec les équipements existants. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura ACP P3i est un réacteur puissant et fiable qui offre un excellent contrôle et répétabilité des procédés. Il offre une multitude de fonctionnalités et de fonctions adaptées au traitement avancé des semi-conducteurs. Sa technologie avancée de source de plasma lui permet d'obtenir des résultats précis et reproductibles même dans des conditions de processus difficiles. En outre, sa machine de sécurité robuste, ses méthodes de production rentables et sa compatibilité avec les systèmes d'automatisation en font un excellent choix pour la fabrication de plaquettes de pointe.
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