Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance #9055082 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance est un réacteur à haute performance de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) dans l'atmosphère conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques avancés. Le réacteur est composé d'une tête de douche en quartz et d'une chambre cylindrique, ainsi que d'un système de commande sophistiqué. La chambre est divisée en trois zones de processus contrôlables indépendamment, qui permettent de définir et de maintenir un large éventail de paramètres de traitement. La chambre dispose de quatre distributions de gaz réglables indépendamment pour la distribution de gaz de procédé tels que l'hydrogène, l'argon et l'azote, permettant une flexibilité et un contrôle accrus. AMAT Centura ACP Radiance utilise une source hyperfréquence programmable pour fournir un chauffage plasma précis et uniforme, permettant des temps de traitement plus rapides et une meilleure performance du film. La source hyperfréquence offre la souplesse nécessaire pour faire varier la puissance et la fréquence du rayonnement hyperfréquence en fonction des exigences du procédé. Le réacteur dispose d'un système de gestion thermique programmable (PTMS) qui assure un contrôle précis de la température tout au long du cycle de traitement en modulant la puissance hyperfréquence. Cela permet de minimiser les non-uniformités résultant des déséquilibres de zone. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura ACP Radiance dispose d'une interface utilisateur graphique intuitive, ce qui le rend facile à utiliser et à programmer. Le contrôleur offre également une surveillance de processus en temps réel avec une protection active contre les défauts pour améliorer la stabilité et la répétabilité du processus. Pour assurer un fonctionnement de pointe du réacteur, on peut ajouter un certain nombre de composants optionnels tels qu'une source d'ions, une turbo-pompe et un générateur RF. Centura ACP Radiance offre un meilleur débit, une meilleure fiabilité et un rendement et une productivité accrus par rapport aux autres systèmes de dépôt CVD. Il est capable de créer des caractéristiques et des motifs complexes dans les matériaux semi-conducteurs et optoélectroniques avancés, ce qui en fait un outil idéal pour la fabrication de films ultra-minces et de diélectriques haut de gamme. Il est largement utilisé dans la fabrication de transistors à couches minces, de circuits intégrés, de systèmes microélectromécaniques, de plaquettes LED et d'autres composants électroniques avancés.