Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE #9199635 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura ACP-SIGE (Atomic Capacitive Plasma-Surface Isolation Gate Etch) est un système de gravure à plasma spécialisé utilisé pour la production de transistors nano-échelle avancés et de circuits intégrés. Il utilise un gaz de gravure couplé inductivement avec une source de plasma atomiquement précise pour obtenir une sélectivité élevée pour la gravure du silicium, du germanium, de l'arséniure de gallium et d'autres matériaux isolants. AMAT Centura ACP-SIGE travaille en appliquant d'abord du plasma sur une plaquette de silicium, substrat traversé par un courant électrique. Ceci transforme la surface de la plaquette en conducteur, ce qui permet une grande maîtrise du processus de gravure. Au fur et à mesure que le gaz de gravure traverse le système, le plasma de la surface de la plaquette est alimenté par le gaz de gravure, créant un processus de gravure très sélectif. Le procédé plasma contrôlable permet alors une gravure extrêmement précise du matériau cible et un contrôle précis des dommages causés par le procédé de gravure. En plus de contrôler le processus de gravure, APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE offre également une solution peu coûteuse pour atteindre la sélectivité du maxime. La couche d'isolation intégrée de grille, qui est appliquée sur la plaquette avant la gravure, contribue à prévenir les dépôts ou implantations indésirables à travers l'interface, en veillant à ce que le processus de gravure adhère à sa zone cible sans endommagement ou contamination involontaire de matériaux adjacents. Centura ACP-SIGE permet également une solution à haut débit, capable de graver jusqu'à douze centimètres cubes de matière par minute. Cela signifie que plus de matériaux peuvent être traités en moins de temps, augmentant la productivité et l'efficacité. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE (Atomic Capacitive Plasma-Surface Isolation Gate Etch) est un excellent outil pour produire des circuits intégrés et des transistors de haute qualité sur un budget serré. Il offre un haut niveau de contrôle sur le processus de gravure, faible coût, et un haut degré de sélectivité. Les capacités de débit supérieures de l'ACP-SIGE le rendent également idéal pour les applications de production à haut volume.