Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP #293738973 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura ACP est un réacteur de production avancée conçu pour fournir un haut débit de capacité de processus de fabrication et de fiabilité. Ce système est idéal pour le dépôt de couches minces multiples typiquement utilisées dans les industries de fabrication de semi-conducteurs et photovoltaïques. AMAT Centura ACP combine une chambre principale à « paroi froide » en quartz, des suscepteurs à paroi chaude à base de silicium à semi-conducteur et un balayage linéaire à faible charge thermique et rapide. Cette combinaison d'éléments de conception permet de réduire les défauts de fabrication, de réduire les temps d'arrêt et d'améliorer l'uniformité des produits. L'ACP dispose d'un loadlock de plaquettes à cinq positions qui permet un chargement rapide et facile de jusqu'à cinq plaquettes à la fois dans la chambre principale. La chambre principale est de forme cylindrique et comprend les suscepteurs à paroi chaude, un tube de protection en quartz et la fenêtre de la paroi froide. La paroi froide se compose d'une seule pièce de quartz qui agit pour isoler l'extérieur de la chambre des gaz de procédé pendant le fonctionnement. Ce mur est interchangeable pour diverses chimies de processus, et peut supporter plusieurs recettes de processus en même temps. Pour améliorer l'uniformité des procédés, l'ACP comporte une fonction de balayage linéaire qui traduit rapidement les suscepteurs sur la largeur de la chambre de procédés. Ce balayage rapide permet au substrat de recevoir un traitement thermique homogène, et minimise les points chauds. Il permet également un réglage plus fin des paramètres de processus tels que la puissance, la température et la pression avec un temps d'arrêt minimal. L'ACP dispose également de la technologie des sources de plasma empilées et du générateur RF avancé. La technologie des sources de plasma est utilisée pour produire des ions à l'intérieur de la chambre afin de réactiver des matériaux à couches minces. En utilisant deux sources de plasma configurables indépendamment, le système peut créer des espèces vaporisées dans la chambre sans créer d'effets de perturbation des électrons. Le générateur RF parallèle permet une puissance maximale de 30kW par source de gaz, assurant un fonctionnement fiable dans tous les processus. Le contrôleur de zones multithermiques de l'ACP offre des gains de débit substantiels en contrôlant avec précision les températures des zones tout au long du processus de dépôt. En outre, l'ACP dispose d'une programmation PLC pour les séquences automatiques et le contrôle total des paramètres de processus. Toutes ces caractéristiques contribuent à assurer un dépôt uniforme du procédé, des temps de cycle plus rapides et des rendements améliorés. En conclusion, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura ACP est un réacteur de production fiable et à haut débit conçu pour donner aux fabricants de semi-conducteurs et de photovoltaïques un contrôle total sur leurs procédés. Les éléments de conception avancés permettent d'améliorer l'uniformité et le rendement des procédés, de réduire les défauts de fabrication et d'augmenter l'efficacité globale de la production.