Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly #9253660 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly est un réacteur de gravure à plasma conçu pour fournir une productivité élevée dans les processus de R-D et de gravure industrielle. L'équipement est une variante avancée de la populaire plate-forme Centura AP et est spécialement conçu pour fournir des taux de gravure améliorés, une réduction des particules plus élevée, et une meilleure performance globale du processus. Le système utilise une technologie de télécommunication de pointe exclusive à haute fréquence (AHF) pour fournir une production de plasma supérieure, une uniformité et une reproductibilité de processus avec une contrainte minimale sur le matériau du substrat. En outre, le Minos Poly dispose de trois niveaux de gravure optimisés (faible, moyen et élevé) qui permettent une large gamme de capacités de processus. L'unité est alimentée par une source de plasma haute densité (HDP) de 0,7 ml conçue par AMAT. Cette source offre un excellent contrôle sur la chimie de la gravure, permettant un traitement précis des recettes de gravure haute et basse. De plus, la source offre une homogénéité de procédé supérieure et une optimisation exceptionnelle du taux de gravure, et réduit considérablement les dommages induits par le plasma sur le matériau du substrat. Ce réacteur de gravure à plasma est équipé de divers accessoires optionnels tels qu'une turbomachine à vide, une machine de blindage et un outil de recirculation avec une pression de base de 0,1 Pa. De plus, le Minos Poly est capable d'exécuter à la fois des opérations DC et MF qui permettent à la fois des profils de gravure directionnels et non directionnels. AMAT Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly est compatible avec une grande variété de recettes de gravure, avec des capacités de contrôle et de surveillance avancées avec des commandes manuelles et semi-automatisées. De plus, l'actif dispose d'une vaste gamme d'outils de surveillance des processus, y compris le contrôle de la température des processus, la surveillance des émissions plasmatiques, la surveillance de la pression sous vide et les capacités de comptage des particules. Dans l'ensemble, le Minos Poly est un modèle fiable et robuste qui fournit des capacités de gravure précises pour une variété de substrats. Ce réacteur de gravure à plasma est bien adapté à la production de volumes élevés, à la R-D et aux essais dans des industries telles que l'emballage électronique, la fabrication de PCB et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.