Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II #9209227 à vendre en France
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ID: 9209227
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Polysilicon etcher, 12"
(4) Process chambers: DPS-ll
With AGN
ESC
Missing parts:
Qty / Name / Part number
(1) / View window / 0200-36461
(1) / 10 Torr gauge / 135-00013
(1) / Ion gauge / 3310-0006
(1) / Bias match / 0190-03009
(1) / HV / 0090-00865
(1) / Foreline gauge /1350-01232
(1) / Ion gauge ISO valve / 3870-00021
(1) / Monochrometer EPD / 0010-05478
(1) / Slit door / 0020-64587
(1) / Slit door bellow / 0040-76767
(1) / NA Heated weldment TEE-KF 40 / 0190-23502
(1) / Heated weldment 7.09 KF 40 R / 0190-23503
(1) / MF Robot driver / 0190-17853
(3) / E84 Cables / -
(2) / Special gas pipes / -
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II est un réacteur conçu pour le traitement des matériaux utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur est capable de traiter une grande variété de matériaux, y compris des oxydes, des nitrures, des silicures et d'autres matériaux semi-conducteurs, avec une grande précision et précision. La mécanique d'AMAT Centura AP DPS II est basée sur le « Dynamic Pressure Sensing System » (DPS). Ce système innovant permet un contrôle de pression précis et réglable lors du traitement ou de la croissance des matériaux. La pression et le débit de gaz, ainsi que la température des réactifs, sont tous surveillés et maintenus à des niveaux précis. Avec la capacité de traiter des matériaux à des températures différentes, il permet une flexibilité dans le type de matériau à traiter. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura AP DPS II comporte également un collecteur de gaz utilisé pour fournir des réactifs tels que l'oxyde nitreux, l'azote et l'argon dans la chambre du réacteur. Ce collecteur de gaz permet un écoulement contrôlé des gaz dans la chambre, ce qui contribue à assurer la précision du procédé. En outre, le système d'injection de piston (PIS), fournit un contrôle précis sur l'injection de matériaux de charge. La conception de Centura AP DPS II est également conçue pour une sécurité maximale. Un bouclier de sécurité résilient empêche les éclaboussures, et une double chambre de réaction au charmonium maintient le processus à température optimale. De plus, un obturateur à distance est fixé à la chambre du réacteur pour assurer un confinement complet pendant l'utilisation. En outre, la technologie avancée d'automatisation trouvée dans AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II permet aux utilisateurs de surveiller en temps réel et de contrôler à distance certains aspects du processus du réacteur. Cela permet une plus grande précision et contrôle, tout en fournissant à l'utilisateur des données sur la façon dont leurs processus ont changé au fil du temps. En matière d'efficacité, AMAT Centura AP DPS II est au sommet de sa catégorie. Sa conception ultramoderne et ses fonctions de contrôle avancées en font un appareil fiable et fiable pour le traitement des matériaux semi-conducteurs. Avec ses systèmes de contrôle de pression précis et sa construction robuste résistant à la corrosion, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP DPS II est un dispositif idéal pour la croissance, le traitement et la caractérisation des matériaux utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs.
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