Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II #9392539 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II
ID: 9392539
Metal etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II (Advanced Plasma Downstream Equipment) est un réacteur conçu pour la production à haut volume de cellules photovoltaïques, de matériaux d'affichage OLED et de divers autres produits à couches minces. Ce réacteur combine une technologie avancée de dépôt de plasma avec un procédé de dépôt chimique en phase vapeur simplifié pour une plus grande robustesse et un meilleur contrôle du procédé. Le système se caractérise par sa capacité à fournir des résultats reproductibles dans une grande variété de processus, et ses faibles coûts de maintenance. Le réacteur AMAT Centura AP DPS II peut être utilisé pour divers procédés de dépôt en couches minces, tels que des couches de passivation en silicium amorphe (a-Si), des couches d'isolation de tranchées peu profondes, des couches d'oxyde de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), etc. L'unité offre un contrôle fiable et précis des taux de dépôt, des températures et des épaisseurs dans ces processus, permettant aux utilisateurs de produire des films minces de haute qualité avec un contrôle et une répétabilité précis. L'architecture facilite également les processus d'oxydation et de passivation ainsi que les procédés de gravure diélectrique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura AP DPS II se compose d'une chambre de procédé, d'un générateur de haute tension pour la création de plasma, d'une source d'énergie RF pour la création de plasma RF et d'une source MESA pour la création de dépôts chimiques en phase vapeur. La chambre de procédés est conçue pour fournir un environnement de production à haut volume, avec un grand volume de la chambre de procédés créant un excellent environnement pour produire des dépôts de couches minces à haute densité. La machine offre également d'excellentes capacités de manipulation de plaquettes, permettant aux utilisateurs de changer d'emplacement de plaquettes dans la chambre de processus pour supporter une variété de processus. Le réacteur est équipé d'un outil de détection en temps réel pour contrôler la fin d'un processus de dépôt, ainsi que d'une gamme d'options de surveillance du processus et d'enregistrement des données pour aider à surveiller et maintenir la répétabilité du processus. En outre, l'actif prend en charge une gamme de paramètres de processus, permettant aux utilisateurs de personnaliser le processus en fonction de leur application particulière. Enfin, le modèle est conçu avec un parcours d'échelle flexible, permettant aux utilisateurs d'augmenter leur production sans investissement significatif dans de nouveaux équipements. Le réacteur Centura AP DPS II est un excellent choix pour la production en grand volume de cellules photovoltaïques, de matériaux d'affichage OLED et d'autres produits à couches minces. Grâce à son contrôle fiable et précis des processus, les utilisateurs peuvent obtenir des résultats de haute qualité avec répétabilité, ce qui rend l'équipement idéal pour les applications commerciales. En outre, le système offre des coûts de maintenance faibles, ce qui en fait une solution rentable pour de nombreuses applications commerciales.
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