Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9027457 à vendre en France
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Vendu
ID: 9027457
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Dielectric etcher, 12"
Process: Cu 62L, 65L, & 92L
Software version: B2.6_45
System Power Rating: 208 AC 3-Phase for system
Loading configuration: 3
Ch-A: Etch chamber 1
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-B: Etch Chamber 2
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-C: Etch Chamber 3
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-D: Etch Chamber 4
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-TC: Transform Chamber
Gases used: N2 (venting)
2007 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le catalyseur Centura AP est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température et une chambre de dépôt sous vide. Il est conçu pour réaliser un large éventail d'applications allant du dépôt de couches minces pour la métallisation de dispositifs semi-conducteurs au dépôt de couches organiques et même atomiques à basse température (ALD). Il est bien adapté pour la production de dispositifs semi-conducteurs dans diverses industries, y compris la production de mémoire, médical et MEMS. Le catalyseur AP est basé sur une chambre à vide cryogénique qui offre une excellente uniformité et répétabilité avec un niveau de stabilité de température inégalé par d'autres réacteurs CVD industriels. L'équipement dispose d'un bras robotique à 10 axes avec une vitesse de déplacement élevée et un contrôle de mouvement précis pour faciliter un positionnement précis pendant le processus de dépôt, ainsi que pour permettre la formation de couches structurées. Les gaz réactifs utilisés dans la chambre sont introduits par des tubes étroits, minimisant la contamination potentielle. Le stimulateur AP est également équipé d'un système d'enregistrement des données qui permet une analyse détaillée de paramètres tels que le débit de gaz, la pression et la température. L'unité d'enregistrement des données permet également aux utilisateurs d'ajuster les paramètres du processus comme la température et la pression de dépôt en temps réel. D'autres caractéristiques de la machine comprennent une caractéristique unique de piste de gaz conçue pour découpler automatiquement les gaz réactifs du gaz vecteur avant de les introduire dans la chambre, ce qui atténue le risque de contamination par le dépôt. L'outil AP Facilitler est une solution fiable et économique qui peut être facilement intégrée à d'autres processus pour créer des configurations personnalisées pour des applications spécifiques. L'actif est également capable de loger un certain nombre de plaquettes à la fois et peut fournir une uniformité quasi parfaite pour la production de dispositifs à grande vitesse. En outre, le catalyseur AP est conçu pour un entretien facile, avec des composants robustes conçus pour prévenir les dommages liés à la corrosion et simplifier le nettoyage.
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