Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9282211 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Facilitateur est un réacteur de gravure à base de gaz à résonance cyclotron électronique multi-zones (ECR). Il est conçu pour des applications à base de silicium telles que les transistors à couches minces et les dispositifs à semi-conducteurs d'oxyde métallique (MOS). Il dispose d'un module source unique, refroidi en interne et polarisé qui permet de fabriquer des caractéristiques à haut rapport d'aspect, permettant une plus grande gamme de capacités de fabrication. Le Facilitateur est également capable d'atteindre une gamme rentable de conditions de processus et présente une uniformité de processus exceptionnelle sur l'ensemble d'une plaquette. Le stimulateur AP fonctionne en mode à puissance constante, offrant une densité plasmatique élevée et des recettes répétables. La source de plasma ECR fournit des espèces énergétiques pour le dépôt et la gravure avec une précision et une répétabilité élevées, permettant une uniformité de gravure supérieure et la résolution des caractéristiques. La source de plasma est enfermée dans une chambre de protection contre le rayonnement et fonctionne à une pression extrêmement basse (10-5 mbar). La source ECR est composée de trois résonances spirales - 24GHz, 40GHz et 60GHz - chaque spirale servant un but distinct. Il est également équipé d'un équipement aimant unique qui permet un contrôle complet de la modulation de densité du plasma dans toute la plaquette pour une plus grande uniformité et répétabilité des caractéristiques. Le réacteur facilitateur est construit sur la plate-forme AMAT Centura et intègre une conception à haut débit et à double chambre qui permet d'optimiser la séquence des processus. Les deux chambres sont constituées de la chambre de procédé et de la chambre de serrure. La chambre de procédé contient l'écran de refroidissement monobloc, qui permet de refroidir et de pré-conditionner les réacteurs avant la gravure et le dépôt. La chambre de serrure est utilisée pour le transfert du substrat vers et depuis la chambre de procédé, ce qui élimine la nécessité d'un système de vide dédié pour le chargement et le déchargement. Le facilitateur est capable de réaliser des processus de gravure à la fois inorganique et organique avec le traitement multi-zone. Il offre un contrôle précis des débits de gravure en utilisant des paramètres limitrophes de plusieurs zones tels que la pression de la chambre, le débit de refroidissement et la composition du gaz. Cela permet d'adapter les recettes et les procédés spéciaux aux différents besoins de gravure. Il dispose également d'une unité de gestion thermique améliorée pour des performances plus précises, fiables et reproductibles. Le stimulateur AP est optimisé pour l'analyse à l'échelle de la production et offre une détection intégrée du point final avec un contrôle avancé des processus. Les capacités de collecte de données et les analyses avancées de la machine permettent des recettes de processus répétables, des rendements de gravure améliorés et la traçabilité des processus. Toutes ces caractéristiques permettent au Facilitateur de répondre à des exigences de haut rendement pour des applications avancées dans les fabriques de semi-conducteurs.