Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Frame #9293610 à vendre en France

Le réacteur AMAT Centura AP est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un outil monobloc qui peut être configuré pour créer un film épais ou un dépôt de film ultra-mince sur une variété de substrats diélectriques et métalliques. Le système utilise un design de chambre de processus unique et innovant, permettant des rendements plus élevés et une meilleure uniformité. Ses supports de substrat facilement réglables offrent une large gamme de paramètres de processus, ce qui augmente l'efficacité de la production. Le réacteur Centura AP est équipé d'une unité de chauffage universelle qui permet le dépôt d'un large éventail de matériaux, y compris le Silicon-3 (Si3), le carbure de silicium (SiC) et le dioxyde de titane (TiO2). Sa capacité multi-stations et son fonctionnement à haute température rendent le Centura AP idéal pour une variété d'applications diélectriques à bas k et avancées. La machine dispose également d'un outil CVD propriétaire qui fournit des films de haute qualité avec des épaisseurs égales dans toutes les zones du substrat. L'outil utilise également un actif à débit de gaz élevé dont on dit qu'il diminue considérablement l'entraínement du bain. En contrôlant les réactions avec des températures de processus plus élevées, le modèle peut réduire encore la diffusion des métaux. Les températures élevées maximisent également le débit et réduisent le nombre de particules. De plus, l'équipement de refroidissement efficace de la plaquette du réacteur Centura AP refroidit rapidement et uniformément la plaquette à l'intérieur et à l'extérieur de la chambre. Le contrôleur avancé du réacteur AP offre une excellente flexibilité et une grande facilité d'utilisation. Il supporte des recettes complexes, avec jusqu'à 8 sources matérielles et 10 paramètres de processus, permettant aux ingénieurs d'adapter rapidement l'outil aux différentes recettes et taux de dépôt. L'ordinateur maître permet la configuration facile de la recette, la surveillance avancée des processus, et la messagerie d'alarme. En outre, il fournit également aux utilisateurs des données approfondies sur la caractérisation des films et un puissant module de contrôle du substrat, qui permet aux opérateurs de contrôler précisément le positionnement du substrat lors des acquisitions ou des temps de refroidissement. De plus, le réacteur Centura AP offre des caractéristiques de sécurité améliorées. Il comprend un stylo de sécurité qui avertit les opérateurs si trop de matériel est ajouté, une fonction d'arrêt automatique si la pression de la chambre est trop basse, et d'autres mesures pour assurer un fonctionnement sûr et efficace. En guise de touche finale, le système offre également des options d'entretien faciles, permettant un nettoyage et un entretien rapides et faciles. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura AP est un outil CVD avancé et fiable pour tout producteur de semi-conducteurs qui nécessite des dépôts très efficaces et uniformes. Il offre un contrôle maximal du processus, une flexibilité de l'unité et des fonctionnalités de sécurité améliorées, le tout à un prix abordable, ce qui en fait l'outil idéal pour toute application CVD.