Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9149535 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura AP Ultima X est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Il fournit des performances avancées pour la fabrication rapide, fiable et répétable de films semi-conducteurs avancés II-VI et III-V. L'Ultima X est capable de produire des films de haute pureté, fortement sollicités et peu défectueux, même pour les exigences de fabrication des appareils les plus difficiles. Le réacteur Ultima X est doté d'une chambre PECVD sans paroi (auto-recuit) et d'une tête de douche traditionnelle, qui permet la croissance d'une large gamme de films conformes avec un faible degré de non-uniformité de température. En outre, il offre un contrôle variable de la pression et de la température du gaz de procédé dans la tête de douche. Les sources d'alimentation fournissent un réglage linéaire de la puissance RF à la tête de douche, et une large gamme d'options de fréquence plasma jusqu'à 200 MHz. Ceci permet une excellente uniformité de facteur de remplissage et de dimension critique. L'Ultima X dispose également d'une technologie avancée de zone de chauffage avec des taux de rampe et de rampe rapides. Cela aide à réduire le stress et à prévenir la contamination tout en contrôlant les propriétés du film final. La tête de douche en quartz et le support de substrat du réacteur garantissent une uniformité de température élevée et des caractéristiques de film supérieures. L'uniformité à haute température garantit une excellente répétabilité du transfert de matière et offre une meilleure couverture d'étape que les conceptions classiques de tête de douche. La composition durable du quartz AMAT Centura AP Ultima X le rend adapté aux dépôts difficiles et sensibles à la température. L'Ultima X a été conçu pour augmenter le rendement et le débit. Il est capable de fournir des recettes de processus standard et non standard. Le système de contrôle intégré met à jour les processus en temps réel, permettant une optimisation rapide des appareils. Les paramètres tels que la température de la plaquette, la pression de la chambre, la source RF et le débit de gaz sont surveillés et contrôlés automatiquement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura AP Ultima X est idéal pour le prototypage, le développement et la production en grand volume de composants électroniques haute performance. Ses performances avancées permettent aux utilisateurs de développer, tester et itérer rapidement pour livrer des produits bien supérieurs. Sa conception optimisée et son homogénéité à haute température garantissent des résultats reproductibles et fiables.