Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9274497 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura AP Ultima X est un réacteur de traitement thermique rapide à basse pression et basse température (RTP) conçu pour des applications telles que le recuit, le dopage et la lithographie légère. C'est un équipement thermique à cycle fermé qui utilise le transfert de chaleur convectif forcé pour créer des résultats de traitement reproductibles et fiables. L'Ultima X permet de contrôler la température de -60 ° C à 700 ° C avec un taux de rampe de température maximal de 600 ° C/s pour un cyclage thermique rapide. L'Ultima X dispose d'un volume de chambre de 0,35 pi ³ avec un tube de procédé de 100 mm de diamètre capable de loger jusqu'à 33 substrats. La chambre dispose d'une porte à double joint facile à utiliser et d'un orifice d'échappement pour l'évacuation des sous-produits de traitement. Un mandrin horizontal est également prévu pour le chargement/déchargement du substrat. Le réacteur est alimenté avec des éléments chauffants verticaux et horizontaux individuels ainsi que deux lampes au xénon pour l'irradiation verticale et horizontale simultanée. L'unité est en outre équipée d'un contrôleur intégré APIII, offrant un contrôle numérique de la température avec un taux de chauffage/refroidissement maximal de 1 ° C/sec. Ce contrôleur est pré-programmé avec 310 recettes définies par l'utilisateur pour aider à rationaliser votre processus. L'interface tactile permet d'ajuster facilement les paramètres pour un processus donné. Le contrôleur est également intégré à un système de tir infrarouge et de contrôle du vide et offre 50 emplacements de base de données pour le stockage de paramètres. L'Ultima X fournit une unité de vide qui offre un niveau de vide de base de 5 mTorr avec pompes d'appoint en option. La jauge à vide intégrée assure un contrôle précis et la sortie d'échappement forcée permet l'évacuation des gaz de procédé. La machine est logée dans une boîte isolée en acier inoxydable pour un fonctionnement précis et sûr. L'outil de rayonnement à double longueur d'onde à quartz ultraviolet permet un traitement thermique efficace et répétable. La fenêtre permet une transmission optimale de l'énergie radiative des lampes. L'unité peut être intégrée avec un contrôleur de débit massique pour permettre un traitement spécifique de l'atmosphère. Le tube d'échappement fendu fixe assure un état thermique homogène à l'intérieur de la chambre tout en minimisant le gradient de température. AMAT Centura AP Ultima X est le réacteur RTP à basse pression et basse température idéal pour la lithographie légère et des applications comme le recuit et le dopage. Il offre un design en acier inoxydable de qualité supérieure, un contrôle et une précision exceptionnels de la température, un modèle sous vide intégré et un contrôle de l'atmosphère, et un échappement fractionné pour garantir des cycles thermiques homogènes. Ce réacteur peut assurer des résultats de traitement reproductibles et fiables pour la plupart des procédés semi-conducteurs.